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中微公司是一家以中国为基地、面向全球的微观加工高端半导体设备公司,为集成电路和泛半导体行业提供极具竞争力的高端设备和高质量的服务。公 司 2004 年由尹志尧博士等人回国创立,2007 年首台 CCP 刻蚀设备研制成功,2012 年首台 MOCVD 设备研制成功,目前产品已具备国际竞争力,公司 ICP刻蚀设备已趋于成熟,截至 2021 年 6 月已交付 100 腔,Mini LED 用 MOCVD设备已获得大批量订单。
本期的智能内参,我们推荐华创证券的报告《半导体设备龙头,内生外延迈向新征程》,整体介绍中微公司业务情况和业绩情况,再分别展开刻蚀设备业务和 MCOVD 设备业务。
来源 华创证券
《半导体设备龙头,内生外延迈向新征程》
作者:耿琛 等
一、极具全球竞争力的半导体设备龙头公司是技术领先的刻蚀及 MOCVD 设备国产厂商,正通过内生外延加速平台化布局。公 司 2004 年成立时首先开发 CCP 刻蚀设备,目前设备在 5nm 及以下逻辑电路产线、64 层 及 128 层 3D NAND 生产线均得到成功应用;公司 2012 年着手开发 ICP 刻蚀设备,2021年 6 月公司 ICP 设备 Primo Nanova 第 100 台反应腔顺利交付。薄膜沉积设备方面,2010年公司开始开发 MOCVD 设备,目前已在全球氮化镓基 LED MOCVD 市场中占据领先地位。未来公司将通过内生外延完善业务布局,逐步成为泛半导体设备平台型企业。
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公司发展历程情况
公司设备主要包括刻蚀设备和 MOCVD 设备,在尹志尧博士、杜志游博士等管理团队和技术团队带领下,公司相关产品已具备全球市场竞争力:
刻蚀设备:CCP 刻蚀设备方面,公司产品已批量应用于国内外一线客户的集成电路加工制造生产线,并持续提升市场份额,在部分客户中的市场占有率已进入前三位,2020 年在国内逻辑器件的两家头部厂商中市场份额达到 39%,位居第二。ICP 刻蚀设备方面,公司产品已有超过 70 个工艺在客户生产线上达到指标要求,且持续扩大应用验证范围,目前正持续研发以增强 ICP 刻蚀产品的整体竞争力。
其他设备:公司子公司中微惠创开发制造了工业用大型 VOC 净化设备,且中微惠创已与德国 DAS 环境专家有限公司签订战略合作协议,双方将在半导体行业尾气处理设备领域展开紧密的合作。此外,公司已经组建团队开发 LPCVD 设备和 EPI 设备,同时将在适当时机通过内生外延等方式扩大产品和市场覆盖。
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公司主要产品情况
公司凭借在刻蚀设备及 MOCVD 设备领域的技术和服务优势,成功进入海内外半导体制造企业的采购体系,形成了较强的客户资源优势。刻蚀设备方面,公司产品已经进入台积电、联电、格罗方德、SK 海力士、中芯国际、长江存储、华虹宏力、长鑫存储等知名企业。在 MOCVD 领域,公司也给三安光电、华灿光电、乾照光电、澳洋顺昌等国内外领先企业提供优质的解决方案。公司客户资源优质,竞争优势明显。
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公司设备已进入全球最先进的芯片和 LED 生产线
以尹志尧博士为首的管理团队和技术团队保证公司竞争优势,新生代力量正在持续壮大。2004 年尹志尧博士放弃美国百万年薪,带领 15 人小团队,回国创办中微公司,专注于半导体设备的研发。尹志尧博士曾任职于应用材料、英特尔、泛林半导体等设备厂商,是国际等离子体刻蚀技术发展和产业化的重要推动者之一。杜志游博士、倪图强博士等均在国际半导体设备产业耕耘数十年,为公司产品和技术发展做出了不可替代的贡献。公司也在持续培养新生代力量,目前员工已超过 1000 人,为中国大陆的半导体产业链发展培养起一批年轻的技术和管理人才。
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