刻蚀机|中微5nm刻蚀机获认可，但中国芯拒被“戴高帽”！尹博士一语中的 char|ESP32|esp32|mcu|arduino|网络收音

众所周知，芯片在数码电子领域的重要性相当于大脑之于人体。芯片的生产，需要经过设计和制造过程。在整个芯片制造过程中，光刻机和刻蚀机是主要需要攻克的技术难关。光刻机相当于把设计好了的电路图复制到硅片上，然后刻蚀机再以这个电路图为模板，进行作业。正因为如此，评价芯片技术的性能，其实就是看光刻机和刻蚀机经不经打。
在当今全球范围，5nm刻蚀机是世界最先进的技术。而我国的芯片95%以上都需要依赖进口，国产芯片的薄弱，使得我国芯片行业在与全球的竞争中处于劣势。
在我国，提到国产芯片，被寄予厚望的当属中微公司。继华为5G之后，中微半导体的5nm蚀刻机成为我国企业又一项完全自主研发的顶尖技术。
据中微2019年的财报，其已开发出5纳米刻蚀设备用于若干关键步骤的加工，并已获得行业领先客户的批量订单。目前，中微半导体的5nm蚀刻机已经获得台积电认可，已进入台积电等厂商的供应链体系。但要知道，目前公开称掌握5nm技术的仅有台积电和三星。
这个消息无疑令国人振奋，不少网友纷纷兴奋地认为，中国芯片将有望实现对欧美的“弯道超车”。但其实只要冷静下来想一想，中微取得这个成绩固然值得欢喜，但我们仍应该看到，我们与世界先进水平还有很大的差距，“弯道超车”还为时过早。
刻蚀只是芯片制造产业链的一环，除了5nm精度很难达到以外，大面积晶圆上的刻蚀一致就更难做到。另外，“光刻机”和“刻蚀机”容易被外行混淆，在芯片制造中，最大的技术难关是光刻机精度的把握，光刻机决定了半导体技术的水平高下。要达到5nm曝光精度难于上青天，中微做出了5nm蚀刻机，并不等于能做5nm光刻机。
在IC业界工作多年的电子工程师张光华指出，硅片从设计到制造到封测，流程复杂。刻蚀是制造环节的工序之一，还有造晶棒、切割晶圆、涂膜、光刻、掺杂、测试等等，都需要复杂的技术。中国在大部分工序上落后。
我们的光刻机还停留在90nm阶段，而在当今全球范围，只有荷兰的ASML公司一家掌握了高端光刻机技术，进入了5nm阶段，这样看来，我们与世界高端光刻机技术的差距可不是一星半点。
【刻蚀机|中微5nm刻蚀机获认可，但中国芯拒被“戴高帽”！尹博士一语中的】就连中微公司董事长尹志尧博士也承认，外界在过分夸大中微的技术。中微公司与行业巨头相比仍有不小差距：“对我和中微的夸大宣传搞得我们很被动……过一些时候，又改头换面登出来，实在让我们头痛。”
虽然中微公司的刻蚀设备已逐渐在国际市场打开了新天地，但在体量上，中微仍与半导体巨头们有很大差距。半导体市场呈现出垄断的经济特征，例如美国的应用材料公司、泛林半导体和科天半导体，荷兰的ASML以及日本的东京电子，都是中微强劲的对手。
“在国外、不同地区的客户，接受中国国产设备的门槛很高，还需要耐心和时间逐步扩大市场的准入和提高市场占有率。”尹志尧表示。
所以，在中国芯片的发展道路上，我们仍然面临着道阻且长的形势。随着越来越多的顶尖科技人才加入研发，我们有理由相信，勤劳勇敢的中国人只要一步一个脚印，踏实做事，未雨绸缪，就一定能破解芯片难题。
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