半导体|“突破点”出现,DUV光刻机出货新规或将迎来变数!

半导体|“突破点”出现,DUV光刻机出货新规或将迎来变数!

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半导体|“突破点”出现,DUV光刻机出货新规或将迎来变数!

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半导体|“突破点”出现,DUV光刻机出货新规或将迎来变数!

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拉扯了那么久的DUV光刻机是否会被限制的事情 , 还是迎来了一个我们并不想看到的局面——“荷兰正在同老美商量对于实施半导体设备出货限制的事情进行谈判 , 最早会在下个月达成新的协议 。 ”
从之前荷兰明确表态不跟随到现如今的情况来看 , DUV光刻机的出货新规很有可能就是限制出货 , 而一旦如此 , 也说明在老美拉拢盟友的过程中已经打开了一个缺口 , 余下的老美估计会想方设法的拉拢到同样限制的阵营当中 。

这不管是对于我们国内市场上 , 还是对于ASML来说都是一个不太好的信号 。 只不过 , 现在“突破点”出现了 。
就在日前 , 有消息透露目前老美正在对日半导体进行施压 , 据悉是直接要求日半导体配合美限制出货的问题 。 至于小编为何说这是一个突破点 , 是因为日半导体的决定很有可能会影响到荷兰方面的协议 。

要知道 , 在美限制新规出炉之后 , 率先拉拢的就是荷兰和日半导体 。 首先是因为在尖端技术领域的突破上 , 美半导体和日半导体有先联合的基础 。 其次是 , 在光刻机市场上ASML是一个重点 , 加之日本也有光刻巨头 , 并且他们均表示了要加码中国大陆市场上的出货 。

而面对美拉拢的时候 , 日半导体可谓是表态很迅速 , 直言他们已经在参考哪一些可以跟随限制了 。 显然 , 那个时候日半导体是给老美释放了一个不错的信号 。 只是在这番表态之后 , 日半导体久久没有实际上的行动 , 不仅如此在中途还内部联合了多家企业组建了欲攻破2nm等尖端技术的联盟 。 足以见得 , 日半导体不是那么想要跟随限制 。 这一点从现在老美直接施压也可以看出一点苗头 。

那么基于这个情况下 , 想要日半导体跟随老美的限制很大可能是存在意外的 。 更凑巧的是 , 在传出了老美直接的要求之后 , 日半导体之前内部所建立的芯片联盟有了新的动向 , 那就是短时间内就将研发提上了日程 。 要说这两者没有关系 , 估计外界也会有所质疑 。
只要日半导体的态度有所改变 , 荷兰方面的态度也有变动的机会 。 毕竟 , 美限制起到作用有一个前提条件 , 那就是“盟友加入” , 并且还承诺过美企要拉拢其他的企业限制 , 才会对美企做出同样的限制 。 也就是说 , 只要有一个盟友不加入 , 美企是不会遭遇大范围限制局面的 。 这个时候光是码着ASML一个企业限制 , 这任谁都想不过去 。
【半导体|“突破点”出现,DUV光刻机出货新规或将迎来变数!】
因此 , 个人才觉得日半导体如今走到被施压的态度是出现的一个突破点 。 而一旦日半导体这一方面有所改变 , 那么DUV光刻机出货的新规或将迎来变数 。 毕竟 , 从一开始来说ASML和荷兰方面都并不愿意进行这样限制出货损害企业利益的事情 , 且这个态度还持续了很长一段时间 , 那么足以见得可能现如今的局面也并非是荷兰半导体真心所见 。

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