阿斯麦尔|国产7纳米再次取得重大突破,难怪ASML转变口风了

【阿斯麦尔|国产7纳米再次取得重大突破,难怪ASML转变口风了】阿斯麦尔|国产7纳米再次取得重大突破,难怪ASML转变口风了

文章图片

阿斯麦尔|国产7纳米再次取得重大突破,难怪ASML转变口风了

由于众所周知的原因 , ASML一直未有对中国出口EUV光刻机 , 今年以来更是连14nm以下的DUV光刻机也不卖给中国了 , 但是近期ASML却突然改变口风表示它是一家欧洲企业 , 可以自由决定对外销售光刻机 , 发生如此变化让人感到奇怪 。

ASML的态度发生变化主要还是在于中国在先进工艺方面取得的进展 , 特别是在当下备受关注的7纳米工艺上 , 业界人士指出只要中国能量产7纳米工艺 , 加上芯粒技术将可以满足中国芯片的绝大部分需求 。
其实7纳米工艺除了用ASML的EUV光刻机之外 , 还可以使用中国芯片企业已经拥有的DUV光刻机通过多重曝光技术实现 , 台积电第一代7纳米工艺就是以DUV光刻机生产的 , 而中国的芯片制造企业中芯国际已取得突破并正在推进量产 。
不过实现7纳米工艺除了需要光刻机之外 , 还需要光刻胶等材料 , 而这方面则受制于日本 , 据悉日本的信越化学、东京应化等占有光刻胶市场近九成的市场份额 , 垄断了这种材料 , 然而近期中国有企业宣布已经成功研制7纳米光刻胶 , 这让海外芯片业界大吃一惊 。
中国的芯片设备企业南大光电近期宣布它研发的ArF光刻胶已经通过了技术验证 , 可以支持7纳米工艺 , 并且已开始向客户交付 , 随着国产7纳米光刻胶开始交付 , 也就意味着国产7纳米工艺量产即将成为现实 。

在光刻胶取得突破之后 , 国产的光刻机也在加快技术研发 , 业界原来预期今年内就能量产14nm的DUV光刻机 , 14纳米DUV光刻机其实也可以用于7纳米芯片的生产 , 而芯片制造的其他几大环节都已经取得突破 , 纯国产化的7纳米工艺成为现实或许就在眼前 。
眼见着中国的芯片制造国产化进展顺利 , 光刻机企业ASML近期就发生了重大的态度变化 , 它表示它是一家欧洲企业不应完全遵从美国的要求 , ASML所在的荷兰也对此予以支持 , ASML还在大举增加中国的员工数量 , 宣布未来3年大幅增加EUV光刻机和DUV光刻机的产能 , 这都被认为ASML对于向中国出售光刻机的态度出现松动 。
其实由不得ASML紧张 , 中国的光刻机产业在快速发展 , 日本光刻机也开始大举抢占中国市场 , 早前中国招标28台光刻机就将其中21台光刻机订单交给了日本企业 , 而ASML一台订单都没有得到 。
在当下全球芯片行业衰退的情况下 , 诸多芯片设备企业都为了生存而努力 , 中国作为全球最大的芯片设备市场更是被视为香饽饽和救命稻草 , 如果ASML无法从中国市场获得订单 , 那么ASML的业绩可能会因此而大幅衰退 , 日本光刻机则可以借助中国市场重振雄风 , ASML回想当年被日本光刻机吊打的日子就不寒而栗 。

不管ASML是否真的对中国自由出货光刻机 , 中国都应坚持自主研发 , 就如7纳米光刻胶那样 , 只要中国企业坚持研发 , 自主受控的芯片制造终究会变成现实 , 到那时候我们将不再被卡脖子 , 拥有更多主动权 , 那时候就会轮到ASML等海外芯片设备企业跪求中国采购了 。