光刻机|26亿人民币！ASML公开官宣，新款EUV光刻机2024年出货阿斯麦尔|芯片|官宣|手机行业

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文|笨鸟科技
芯片制程已经到了一个临界点，现款EUV光刻机可以支持3nm芯片量产，但是更先进的2nm就需要更高端的EUV光刻机设备才行了。
【光刻机|26亿人民币！ASML公开官宣，新款EUV光刻机2024年出货】对此， ASML公开官宣，新款EUV光刻机会在2024年出货，并且每台售价将近26亿人民币。如此昂贵的设备，有哪些亮点呢？新款设备来了，旧款EUV光刻机能自由出货吗？

ASML官宣新款EUV光刻机
摩尔定律引导人类芯片工艺发展了几十年，从微米提升到了如今的纳米技术，并且达到了4nm ， 3nm的顶级水准。
按照摩尔定律的概念来看，集成电路每隔两年可容纳的晶体管数量就会翻倍，另一层意思就是芯片性能可以持续提升。
但硅基材料终究会受到物理规则的限制，无法在已有的技术领域将芯片制程无限延伸，必须采用更先进的制程技术和半导体设备，所以ASML下一代新款EUV光刻机成为了重点。

ASML的EUV光刻机是全球最顶级的芯片制造设备，台积电，三星都需要采购EUV光刻机来生产7nm ， 5nm等高端芯片。但现款的EUV光刻机都是采用0.33数值孔径系统，能实现3nm的芯片曝光就已经是极限了。
想要取得更高的精度提高分辨率，就必须升级光刻机系统。关于这一点， ASML已经在准备了。
ASML正在研发下一代的NAEUV光刻机，将数值孔径系统升级到0.55 。 NAEUV光刻机可以支持2nm及以下芯片的生产，目前ASML确定有两款型号，分别为TWINSCANEXE:5000和TWINSCANEXE:5200 。

另外， ASML公开官宣，新款EUV光刻机会在2024年出货。价格方面，每台NAEUV光刻机的售价是3亿到3.5亿欧元，相当于最贵卖到了26亿人民币。
这个价格是现款EUV光刻机的两倍左右，可即便如此昂贵，也还是迎来了台积电、三星、英特尔等芯片制造巨头的纷纷下单。不只是用于芯片制造，也有部分客户采购NAEUV光刻机用于研究目的。
总之ASML似乎并不缺NAEUV光刻机订单，价格对巨头们来说只是其次，有货才是最重要的。

如此昂贵的设备， NAEUV光刻机有哪些亮点呢？这类光刻机最大的亮点就是可以在5nm以下实现单次曝光。
因为芯片的晶体管密度十分精细，到了5nm以下即便是EUV光刻机，也需要使用双重或多重曝光技术，确保芯片图案能完整光刻在晶圆表面。
但是对于芯片制造商来说，追求的依然是单次曝光技术，这样可以提高生产效率，也能为芯片制程发展提供应用潜力。而NAEUV光刻机的数值孔径是0.55 ，分辨率达到了8nm ，可以在5nm ， 3nm乃至2nm避免多重曝光带来的良率，成本挑战。

新款设备来了，旧款EUV光刻机能自由出货吗？
不出意外， NAEUV光刻机会是2nm制程时代最主要的致胜王牌，台积电、三星、英特尔都会争相抢购。值得一提的是，这三大巨头都已经下单NAEUV光刻机，并且透露会在2024年拿到货品，这和ASML的出货时间是一致的。
为了满足客户的需求， ASML计划在2027年到2028年期间，将NAEUV光刻机产能提升至每年20台。