|佳能、尼康之后，华为来了：国产光刻机的黄金时代

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整个光刻机行业正在酝酿着一场大变局。
日前，尼康、佳能面向中国市场的光刻机需求动作频频，而华为也在不久前公布了光刻机专利。

因此，基于美国的禁令，光刻机巨头ASML面临的局面越来越不容乐观。不久前，光刻机巨头ASML宣布扩产EUV与DUV乃至于下世代EUV设备计划，其年产能要提高到90台EUV和600台DUV光刻机，原因就在于， ASML在光刻机市场，正在面临着更加复杂的竞争局面。
尼康、佳能之外，光刻机市场迎来华为这个重量级竞争对手
一方面是国内上海微电子的光刻机量产的进展。上海微电子于今年通过了28纳米光刻机的技术检测和认证，目前已处于量产阶段。据悉将在明年向国内芯片制造企业交付28nm光刻机。
国内企业和各科研单位对光刻机、EDA软件、光刻机胶等设备和材料进行了攻克，待以时日，随着国内在DUV光刻机市场的量产落地，留给ASML的市场空间就小了。
因此， ASML试图在这个时间空窗期要加大出货，争夺市场。

另一方面，由于国内对光刻机市场需求大，但美国的禁令让中国市场需求被阻断压制，中国半导体企业四处寻求破局路径以及找到新的光刻机替代厂商，这让佳能、尼康看到了机会。
21年来从未建过光刻设备新厂的佳能，最近打算在日本东部栃木县新建一座半导体设备厂。而佳能建厂的原因，就是面向中国市场的需求。
另一方面是，华为也已经入局光刻机市场，据据日前SeenPat新专利公开消息显示，华为一项新专利公开，提供了一种反射镜、光刻装置及其控制方法，能够解决相干光固定的干涉图样而无法匀光的问题。专利名称为“反射镜、光刻装置及其控制方法” ，专利申请号为CN202110524685.X 。

根据描述，在该光刻装置中，相干光源发出的光线经旋转的反射镜的反射后，通过照明系统分割为多个子光束并投射至掩膜版上，以进行光刻。

【|佳能、尼康之后，华为来了：国产光刻机的黄金时代】该光刻装置通过不断改变相干光形成的干涉图样，使得照明视场在曝光时间内的积累光强均匀化，从而达到匀光的目的，继而也就解决了相关技术中因相干光形成固定的干涉图样而无法匀光的问题。
从这项专利上，我们看到华为在光刻机研发层面正在投入与突破，光刻机市场迎来了华为这个重要选手，有望把国产光刻机的进度往前推一步。
国产光刻机与ASML差距依然很大
在光刻机市场，一直是ASML垄断市场，但是佳能与尼康也能拿下DUV市场的一定的市场份额。数据显示，在2020年，全球TOP光刻机企业竞争格局中， ASML占据63%的市场份额，佳能占据30%的市场份额，尼康占比9%。

虽然说ASML在7nm以下的EUV光刻机市场是一家独大，但是在DUV市场，佳能与尼康还是有抢食的机会与能力。从市场份额来看，在2020年，佳能光刻机销量122台，占比30% ，佳能尼康两者加在一起占比接近40% ，虽然佳能和尼康，目前生产的大多数光刻机主要是DUV光刻机，但是这个市场份额依然能够给ASML构成较大的压力。