|佳能、尼康之后，华为来了：国产光刻机的黄金时代( 二 )

尤其是中国市场对DUV光刻机的需求量非常庞大，这是佳能与尼康可以争取的蛋糕。
从中芯国际在今年9月投资555多亿扩产28nm芯片可以看出来，由于美国制裁导致的芯片限制，大量的芯片进不了中国市场，为了满足国内市场需求，国内企业产能就要替代外国企业产能，因此，这是中芯国际扩大产能的重要原因。
从国内对芯片的需求来看， 28nm的芯片产品可以应用于新能源汽车、自动驾驶、家电、通信，以及物联网设备、路由器和机顶盒等领域，比7nm、5nm制程的芯片的市场需求要广泛的多，基本上可满足市场90%需求。
因此，在14nm、28nm的芯片领域，中国市场有着非常庞大的芯片需求，这也意味着对DUV光刻机的需求非常大。而整个市场需求必然会激发出市场资金与人才以及产业链的集聚。这也让华为也看到了光刻机市场机会。
从尼康、佳能的动作来看，都要争夺中国市场的光刻机市场，但尼康、佳能深入中国市场布局光刻机，免不了要在中国建厂，实现技术落地，这对中国的光刻机产业来说，也是一个借助外力的机会，而中国的光刻机产业链也在逐步成型。
当前，国产光刻机产业链中，做集成的有上海微电子、做双工件台的有华卓精科；做光源系统的有科益虹源，做物镜系统有国望光学，做曝光光学系统的有国科精密，做双工作台的有华卓精科，做浸没系统的有启尔机电等，做光刻胶的有南大光电、做光刻气体的有华特气体等，再到光掩模版，光刻机缺陷检测设备，涂胶显影设备等，都有相关的公司与产业分布。

但同时需要认清的是，做集成的上海微电子的国产光刻机技术与头部的差距依然非常大。上海微电子的光刻机使用的光源分别为深紫外ArF（193nm）、KrF（248nm）， i-line (365nm) ，虽然已经用到了深紫外光源，但根据业内评判，其整体制造能力整体水平相当于ASML 2003年左右的第三代光刻机TWINSCAN AT :1150i ，从这方面来看，与国外的差距有18年。
这么大的差距如果让上海微电子关起门来研发，那很难去追赶这个差距，要打破这个差距，它需要多方面的力量，国内领头羊公司与外部先进技术缺一不可。
快速弥补差距，国内领头羊公司与外部先进技术缺一不可
首先需要领头羊厂商来聚集产业链的需求。从国内市场来看，华为有庞大的消费市场用户，它对于光刻机的诉求是最强的，对用户的需求理解很深，以及在技术层面的投入都非常大，华为有光芯片，射频等很多硬件的经验，产业链的完整性让华为对硬件有更强的理解力，对光刻机的制造有更强的产业链协调力与技术理解力，华为的利润以及能够投入的资金都相对更大。
国内的市场需求摆在这里，产业链就有足够的动力，而华为恰恰又一定的产业链号召力，现有的国产替代的产业集群也正在起来。做光刻机难度很大，一家公司肯定不行，核心关键是需要有一家领头羊厂商来快速整合市场，带动整个产业链的进步。
现在领头羊科技公司已经有了，要实现产业链更快的进阶，其实还需要快速补齐相关的关键短板，引入外部实力派玩家是非常有必要的。整体来看，我们不能封闭起来搞研发，有必要联合一些实力派、去美化技术玩家快速把市场与技术做起来，拉近与佳能在内的日本企业的距离，是我们有必要走的重要一步。
日本企业在半导体产业上的实力颇强，全球半导体设备TOP20供应商中，有11家来自日本。其次，从佳能与尼康的动作来看，都对我国的光刻机市场垂涎欲滴，有很强的争夺欲望。