|佳能、尼康之后，华为来了：国产光刻机的黄金时代( 三 )

根据尼康透露，它所要布局的NSR-S635E ArF 浸入式光刻机与ASML的EUV光刻机不同，使用DUV光源就可以加工5～7纳米的芯片，每小时可以制造275片晶圆，并且不使用美国技术。 Nikon在2020年也推出了第一台制程5nm的ArF浸没式光刻机NSR-S635E ，可用于7nm、5nm制程工艺量产的光刻机。
佳能的新工厂有着被许多企业寄予厚望的纳米压印光刻（NIL）技术，就是由佳能提供产品线。而佳能和大日本印刷、铠侠共同研发的纳米压印设备，更是被看做EUV光刻的替代工艺。
佳能也在走EUV替代技术的路线，这其实与国内的光子芯片、量子芯片的技术路线不谋而合，大家有共同的方向与诉求，也自然有合作的可能性，去共同实现技术的交融与探讨。
需求能驱动市场与产业的创新，如果中国用市场换日本佳能、尼康的技术，加上华为针对性研发光刻机技术，帮助供应链厂商成长，去聚集、带动产业链的需求，从芯片产业到光刻机在国内也将逐步培育出完整的产业链。
国产光刻机关键技术的攻克，尼康与佳能是可以争取的对象
事实上，中国多年来一直在推动芯片产业链的国产化，但受制于该技术的高壁垒，光刻机一些技术领域长期被“卡脖子” 。尽管如此，但是依然取得了一些成就，比如在双工件台方面，华卓精科打破了ASML在光刻机工件台上的技术垄断，成为世界上第二家掌握双工件台核心技术的公司。
在光源方面，中国科益虹源公司自主研发设计生产的首台高能准分子激光器，已完成了6khz、60w主流ArF光刻机光源制造，也是上海微电子即将交付的28nm光刻机的光源制造商。但短板在于，光学镜头方面，奥普光学提供的镜头可以做到90nm ，但是与卡尔蔡司、Nikon等公司还有非常大的差距。
毕竟，光刻机本身涉及到复杂的光学成像镜头与光学系统，光刻机制造芯片的流程就类似相机的“曝光” ，即把精细电路图案曝光在晶圆的半导体基板上，在光学技术与镜头方面，尼康、佳能都有较深的积累。

因此，对于国产光刻机产业链来说，引入尼康、佳能的合作就非常有必要了，华为此刻入局光刻机，是一个合适的时机，华为对光刻机有需求，尼康佳能有技术，尼康、佳能在光学镜头等方面的技术自主性较高，不用担心美国禁令，因此，华为与尼康存在合作的可能性，彼此可以通过市场换技术的形成达成合作。
此外，华为作为行业的科技领头羊企业，华为公司的高端实验室其硬件能力也能对供应链企业起到帮助，甚至能帮供应链企业解决一些关键技术难题，它有订单需求，也有能力整合国内的光刻机产业链，推动供应链再向前走一步。
从国内光刻机战略层面，一方面是国内需要产业分工，加快国产光刻机产业链国产替代进程。另一方面是与先进设备制造商积极开展技术合作，这要求产业链企业有必要争夺美国以外的光刻机产业链设备制造和供应商，以市场换技术，建立更加深入的合作关系。
随着佳能、尼康以及华为的入局，如果能实现彼此合作，有望进一步推动整个产业链的集聚效应。某种程度上，美国对ASML的禁令，其实并非全是坏事，把市场让出来，给国内光刻机市场营造更好的研发布局环境，华为入局恰恰是一个关键的信号与拐点。
接下来，如果要推动国产光刻机技术再向前迈一大步，拉近尼康与佳能的深度合作，成为重要一环，从这两大厂商对中国市场的争夺欲望来看，这其中的可能性还非常大，从当前的市场环境来看，国产光刻机市场正在迎来一个更好的黄金时代。