钉钉|尼康开始讨好中国企业，中国想要在芯片上实现突破，有两条路可走微信

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近几年，虽然美国在限制中国的芯片技术，但日本企业却不断的示好，比如尼康就希望获得中国市场的认可，并将推出S635E ArF 浸入式光刻机，这款光刻机是为中国企业推出的，里面舍弃了美国技术。尼康也制定了一系列的发展计划，计划在未来的三年中将销量提升一倍，而想要提高销量就离不开中国市场的认可。中国是世界上最大的芯片市场，有着非常大的潜力，尼康虽然没有实力完全占据中国市场，但将会成为一种不错的补充。

目前，中国最缺少的光刻机是深紫外光刻机，除此之外，我国的DUV光刻机技术已经能够和asml公司相媲美，正在努力研发14纳米芯片，可如果想要进军高端芯片，就必须要深紫外光刻机。目前在世界范围之内，只有asml公司的深紫外光的机才能够生产出7纳米制成的芯片，因为其拥有最高的生产工艺和精度，也能够保证芯片的良率，想要大规模生产高端芯片，就离不开深紫外光刻机。除了asml公司之外，世界光刻机领域当中还有佳能和尼康两家大企业，但和asml公司有着非常大的差距。
日本尼康曾经是光刻机领域的王者，但后面被asml公司赶超了，而且差距越来越大，目前尼康最主要的产品还是中端的DUV光刻机和低端的UV光刻机，而且DUV光刻机还无法和asml公司进行竞争，由于asml的光刻机使用了很多美国技术，所以美国对于asml公司有着很大的影响力，可能会进一步影响asml公司的决策，目前老美一直希望限制DUV光刻机对中国的出口，如果DUV光刻机无法来到中国，那么中国的成熟芯片生产将会受到很大的影响。

就在这个关键的时间节点，让尼康找到了机遇。虽然尼康的DUV光刻机技术比不上asml公司，但普通的生产需求还是可以满足的。根据尼康介绍，其生产的NSR-S635E ArF 浸入式光刻机和Asml公司的DUV光刻机不一样，能够生产5纳米到7纳米的芯片，每小时有275枚的产量，并且摆脱了美国技术。但由于5纳米到7纳米芯片需要非常高的工艺，所以尼康的光刻机能否满足这个需求，还有待考察。在全球芯片市场遭到老美的限制之后，尼康确实有进军中国大陆的机会，甚至有可能改变尼康公司的整体命运。
只不过由于DUV光刻机的技术并不是特别出色，所以对中国企业的吸引力也不是很大，尤其是在这两年，中国对光刻机进行了大力度的研发，生产出来的光刻机已经非常先进，能够满足成熟工艺芯片的生产，所以尼康的光刻机对我们而言并不是特别重要。但我们也没有必要完全舍弃尼康，因为尼康曾经也是光刻机领域的龙头，之前的市场份额比asml公司要高得多，只不过后来asml公司和台积电一起研发技术，实现了弯道超车，从而彻底的战胜了尼康，虽然现在尼康已经不是芯片领域的霸主，但由于其在光刻机领域深耕这么多年，所以还是非常有实力的，而且尼康是光学厂出身，拥有全世界最先进的光刻机光学镜头技术，并且拥有大量的光刻机制作技术和原理。

尼康的天文望远镜拥有非常高的分辨率，精密测控技术分辨率也非常高，在镜头方面的技术是出类拔萃的。尼康曾经在80年代和美国的Eaton、Ultratech、GCA一起竞争，当时拥有30%的市场份额，只不过事态的发展在2000年出现了变化，由于当时的光刻机发展到了一个瓶颈，出现了干湿两种路线，而尼康和很多日本科技公司都开始发展干式光刻机， asml公司则开始发展浸润式光刻机，并且一举获得成功，从而实现了反超。浸润式光刻机会让硅片和镜头浸泡在液体当中，这种方式可以大幅度的减少激光波长，于是当asml公司的光刻机生产出来之后，对尼康形成了碾压，整个光刻机市场终于被asml公司收入麾下。