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阅读下面文章之前 ， 希望您能够在上方点个免费的“关注”！接下来您每天都能够收到免费的国际资讯哟！您的关注是我的动力~多多支持下嘛！！随着世界科技技术的发展 ， 每个国家对半导体领域的发展都十分重视 ， 为了能够在半导体领域拿到主动权 ， 美日韩以及西方发达国家在很早之前就开始了这一领域的发展 ， 所以绝大多数核心技术都被他们掌握在手中 。 如今 ， 我国开始奋力发展半导体领域 ， 却处处都受到技术封锁 ， 不过这并不代表我国就跨不去这道坎儿了 ， 目前我国正在实现半导体领域的逐一突破 。 光刻胶技术作为半导体领域中极其重要一环 ， 一直以来都被日本掌握在手中 ， 如今中企传来好消息 ， 国产光刻机终于开始投产 。 那么光刻胶究竟是什么？打破光刻胶垄断为何这么重要？
相信大家都很疑惑 ， 到底什么才是光刻胶？一直以来 ， 我们只听说过光刻机技术被国外垄断 ， 还从来没听说过光刻胶这种东西 。 其实 ， 大家一直以来都将芯片制造想的太过于简单了 ， 以为只要拥有光刻机技术 ， 那就能够实现量产芯片 。 可是在芯片制造的背后 ， 有着超过成千上万种技术的支撑 ， 比如设计芯片、封装测试 ， 就连一直都不起眼光刻胶材料也要掌握才能够最终完成生产芯片 。 简单来说 ， 如果没有光刻胶材料 ， 即便掌握了高端EUV光刻机 ， 也无法将制程工艺曝光在芯片上 。
光刻胶又称为光致抗蚀剂 ， 在光刻工艺的过程中 ， 需要涂上各种各样的光刻胶材料 ， 才能够在晶圆表面上得到想要的制程工艺 。 而光刻胶又分为紫外正性光刻胶、紫外负性光刻胶、X-射线胶等多种光刻胶 ， 所以想要突破光刻胶技术十分困难 ， 多年来只有日本掌握大部分的光刻胶技术 ， 其他发达国家掌握的只是龙鳞凤角 。 台积电、三星等大型芯片代工厂都极其依赖日本光刻胶进口 ， 我国芯片若想彻底打消被“卡脖子”的风险 ， 必然要突破光刻胶技术 。
作为中国最大的光刻胶厂商之一 ， 南大光电这次真的立功了 ， 据消息报道 ， 南大光电这次突破了ArF光刻胶技术 ， 成功对该光刻胶技术实现了破冰 ， 如今已经开始投资量产 。 值得一提的是 ， 这次的ArF光刻胶技术是应用于14nm芯片的 ， 国内最先进的芯片制造厂商中芯国际 ， 芯片制造实力也正处于14nm制程工艺的水平 ， 所以南大光电所生产出的光刻胶 ， 与中芯国际的业务十分契合 ， 成功让芯片国产化更近了一步 。
重要的是 ， 南大光电的研究范围绝不止14nm光刻胶 ， 无论是在中低端领域还是在高端工艺上 ， 南大光电皆有所布局 。 所以 ， 我们作为中国人 ， 对南大光电一定要给予鼓励和加油 ， 尽管日本企业掌握着全球超过40%左右的光刻胶份额 ， 中国企业也一定能够逐一完成突破 ， 在国内建立自己的生产线以及供应链 ， 为芯片国产化做出贡献 。 目前 ， 我国在芯片国产化定的目标是在2025年达到70%自给率 ， 这不仅需要国内的芯片大厂做出努力 ， 整个国产半导体企业都要付出努力 ， 这样下来才能超额完成任务 ， 早日实现芯片国产100% 。
【光刻胶|被日本长期垄断，国产14nm光刻胶开始投产，南大光电这次立功了】
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