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之前为什么说美国半导体在没落?这是因为美国在全球半导体制造的市场份额从1990 年的37%下降到2021年的12% 。 但是美国政府真正担心的是 , 只有12%的芯片制造份额 , 但美国公司却设计了全球47%的芯片 。 实际上这就意味着美国芯片公司自己设计的芯片 , 大多数都在美国海外制造 , 这对美国来说一方面影响了本地经济;但另一方面美国的芯片不在美国制造 , 这就有技术外泄的可能 , 从而产生美国经常用的一个借口:国家安全!
我们很多时候都在嘲笑美国将国家安全当做借口 , 但是说实话美国是真的有很多人将这作为真正的担心 , 而不仅仅是一个制裁其他国家和公司的理由 。 所以从两方面考虑 , 美国政府也好 , 从业人员也好 , 都在呼吁美国建立更多的芯片和半导体工厂 。
美国的芯片法案已经确定 , 这个我们就不细说了 。 当然这其中除了鼓励全球芯片公司在美国建厂并给予补贴之外 , 很重要一点还是不能在中国内地新建和扩建新的芯片工厂 。 所以我们也说过了 , 一些厂商会感到比较犹豫 , 但是其他一些本来在国内都没有怎么建厂的公司 , 无论是不是美国公司 , 肯定是会在美国建厂的 。
目前有五家芯片制造公司已经积极响应美国的芯片法案 , 确定在美国建厂 。 这几家公司将会获得美国政府提供的520亿美元的补助 , 同时还会获得新的税收优惠 。 在当前的经济环境下 , 这些优惠和补助对这些芯片公司来说都是非常急需的 。 目前这五家公司分别是Intel、三星半导体、台积电、格罗方德(GF)以及德州仪器 。
Intel就不用多说了 , 目前 , Intel正在建设四个芯片生产工厂 , 两个在亚利桑那州 , 两个在俄亥俄州 , 以及一个在新墨西哥州的先进封装工厂 。 这其中在亚利桑那州是Intel很重要的芯片工厂 , 分别有Fab 52和Fab 62两个工厂 , 这些工厂会在2024年上线生产 , 耗资约200亿美元 , 主要是生产Intel 20A工艺 , 也就是Intel的5nm工艺 , 对飚三星和台积电的2nm工艺 。
至于俄亥俄州的两个芯片工厂 , Intel还没有命名 , 不过据说总投资达到了1000亿美元 , 要十年才能全部建成 。 这两个工厂会在2025年上线Intel 18A和20A两个工艺 , 使用ASML最新的极紫外EUV光刻机 。 至于新墨西哥州的封装工厂 , 除了封装之外还要构建复杂的多芯片设计 , 预计在2023年或者2024年正式启动 。
台积电在2020年就表示要在美国亚利桑那州凤凰城附近建造具备 5nm 能力的晶圆厂 , 这是台积电在中国台湾之外修建的第三个工厂 , 另外两个一个在华盛顿州卡马斯的 WaferTech 工厂(使用成熟节点处理200毫米晶圆)和位于中国江苏省南京市的Fab 16工厂 , 后者主要制造28nm的芯片 。 台积电在美国建立的5nm工厂名为Fab 21 , 台积电将在未来许多年分六个阶段建设这个工厂 , 第一阶段将于 2024 年初上线 , 并使用台积电的 N5(N5、N5P、N4、N4P、N4X)系列工艺技术生产芯片 , 未来也可能制造3nm乃至2nm等先进芯片 。
格罗方德也就是GF , 打算在纽约建立一个新的芯片工厂 , 不过格罗方德不会涉足先进工艺 , 最高还是12nm的制程 。 目前格罗方德没有透露纽约新的芯片工厂具体情况 , 不过按照过去来看 , 还是会在14nm、12nm以及改良版本上做文章 。 格罗方德的工艺是美国境内很多公司采用的制程 , 和美国军方也有大量合作 , 毕竟是美国本土的芯片制造商 , 美国军方也大量采用了格罗方德的芯片 。
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