国产光刻机往事：难，真的是难…( 三 ) 国人普遍对光刻机唉声叹气之

曾经编写过《光刻掩模版的制造》武汉无线电元件三厂，一度还卖起了副食品。徐端颐团队也退出了光刻机的研究，转向光盘技术领域，还拿到了国家发明二等奖。

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2002年，荷兰南部的边境小镇费尔德霍芬，来了一批西装革履的中国人，他们身上背着一项沉重的使命——研发刚被列入“863重大科技攻关计划”的新型光刻机。
带队的人，名叫贺荣明，他掌舵的上海微电子公司，由科技部和上海市政府牵头成立，承担着攻坚光刻机技术的重任。
1999年，北约入侵科索沃时，美国的电子信息战瘫痪了南联盟几乎所有网络通讯系统，让人们看到了一场信息战的威力。科技部多次召开紧急会议讨论：一旦和美国闹掰，国家信息安全将面临怎样的威胁？
在缺芯少魂的担忧下，中国喊出了“砸锅卖铁也要研制芯片”的口号。在政策的鼓励下，中国半导体产业出现了海归创业和自主发展的热潮，国产光刻机再度觉醒。
贺荣明考察ASML的那一年，国际上的光刻机技术迎来重大突破。台机电联合ASML成功研发出的新一代光刻机，将芯片制程推进到45nm 。 ASML凭此脱颖而出，在日后击败尼康，成为新一代光刻机霸主。
贺荣明的目标很明确，想和光刻机巨头ASML公司合作，最不济也能学到点东西，但对方压根没把这群来自中国的客人放在眼里。
ASML公司一位德国工程师直接将光刻机的图纸拿给他们看，并撂下一句狠话：“就算给你们全套图纸，你们也做不出来光刻机” 。
贺荣明很是生气，但外国专家的话不无道理，光刻机制造难度太高了，对精度、速度要求已高到难以想象——相当于两架大飞机从起飞到降落，始终齐头并进，一架飞机上伸出一把刀，在另一架飞机的米粒上刻字，不可以出差错。
巴统虽然解体了，但以美国为首的西方国家又搞出了瓦森纳协定。
在瓦森纳协议下，西方国家对中国半导体技术及光刻机等设备出口，一般都遵循“N-2”的原则审批，即比最先进技术落后两代。如果再在审批过程中适当拖延一下，中国能拿到的，只怕落后三代不止。
在中国必须掌握集成电路的主动权的战略重视下，国产光刻机还是艰难地重新起步——曾经研发出投影光刻机的45所，被调至上海微电子，他们的任务是100nm以下光刻机的研究。
2007年，上海微电子宣布研制出90nm工艺的分布式投影光刻机。由于这台机器大部分元器件是国外的，西方国家立即实行了禁运。辛苦研制的光刻机，迟迟无法量产又成为了摆设。
2008年，国家又成立“极大规模集成电路制造装备与成套工艺专项”（02专项）。吸取了前车之鉴后，除了强攻整机制造，还扶持了一批配套产业链企业。
比如，中科院微电子所与科益虹源合作研究光源系统、清华大学与华卓精科的开发双工作台系统、浙江大学与启尔机电共同研制浸没系统等。
持续的攻关下，光刻机产业开始取得突破。 2016年，上海微电子终于实现了90nm光刻机的量产。
同年，清华大学团队和华卓精科成功研发出光刻机双工作台系统样机，成为继ASML之后第二个掌握光刻机双工作台系统的企业。
然而，就在形势不断向好时，美国挥舞着大棒来了。
2019年5月，美国突然宣布对华为制裁，并且很快将制裁范围从芯片扩展到更多领域，其中最重要的一个就是，限制国际领先光刻机对华销售。