国产光刻机往事：难，真的是难…( 二 ) 国人普遍对光刻机唉声叹气之

没有资料，只能靠自己摸索，徐端颐和团队成员边干边学，没日没夜地加班攻关，终于在1980年造出了国内第一台投影光刻机。
1985年，中科院45所在光刻机领域取得了重大进展，研制出分步投影式光刻机，被认定达到了1978年美国GCA公司推出的光刻机水准。当时，日后的光刻机巨头ASML公司才刚刚诞生。
国产光刻机有一个好的起点，但尴尬的是，因为当时国内半导体产业整体太薄弱。国产光刻机虽然研发出来，却没有很好的下游应用市场，无法真正走上市场和商业化的道路，只能停留在实验室研究阶段。
此后的二三十年，这种现实愈演愈烈，中国光刻机对外的差距，也越来越大。

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1977年7月，邓小平邀请30位科技界代表在人民大会堂召开座谈会。
在那场座谈会上，中国半导体灵魂人物王守武说得很直接：
“全国共有600多家半导体生产工厂，一年生产的集成电路总量，只等于日本一家大型工厂月产量的十分之一。 ”
王守武的一句话，将中国半导体产业的家底抖了个干净。
在20世纪60年代后期，中国一度采用群众运动的方式搞半导体。当时，报纸上甚至出现了如此报道：街道老太太在弄堂里架一台扩散炉，也能做出半导体。
蛮干硬上，产业发展违背科学规律，国内的芯片产业基本处于分散的手工式生产。在同一个时期，日本则依靠“产、官、学”相互协作体系，成为全球半导体市场的有力竞争者，其光刻机技术也取得长足的进步。
1984年，尼康推出量产型自动化步进式光刻机，凭借良好的性能，一如太平洋战争初期那般，印刻着“MadeinJapan”的光刻机，把美国厂商打得节节败退。尼康甚至从美国厂商GCA手里夺下了IBM、英特尔、AMD等一系列大客户。
一消一涨之间，中国与世界先进水平的差距，被拉得更大了。这种差距感染了规划工作者，中国半导体行业由此开始了急进式的追赶之路。
从1986年到1995年，国家部委先后组织了半导体领域的“三大战役”：531战略、908工程、909工程。规划工作者希望通过市场化和运动式的集中攻关并行，换取半导体技术的进步和产业跨越的发展。
但国内如火如荼的造芯运动，却没有成为国产光刻机的幸运时刻。
改革开放，让美、日光刻机厂商紧盯着中国市场，再加上国产光刻机性能本就落后，国内好不容易起来的半导体企业和光刻机市场需求，却成了送给外资的礼物。
为迅速抢占中国光刻机市场，国际厂商除了常规竞争，可谓是千方百计。一些企业甚至还推出特别福利：买光刻机，送出国游。
国门刚开，中国的厂长经理们总想出去看一看、玩一玩，顺便学些先进经验回来。再加上对方的产品的确优秀，所以国内企业普遍就选择了国外光刻机。
许多原本购买徐端颐团队投影光刻机的公司，纷纷取消了订单。
本身就落后，且没有什么市场的国产光刻机，此时处境更加尴尬。产品卖不出去，从市场上找不到钱的同时，连生存也被釜底抽薪：
在20世纪80年代初，我国实行“拨改贷”的政策，将政府对国有企业的财政拨款，改为企业向银行贷款，导致国家对电子工业投入的减少。
既赢不了市场，也没了国家经费支持，国产光刻机因此站到悬崖边，许多光刻机项目纷纷下马。
芯片产业日新月异，光刻机亦是如此。当步伐停下后，曾经尚可奋力一争的国产光刻机，与国际同行的差距因此被迅速拉大，甚至几乎处于停滞状态。