客户端|不做表态，ASML尼康等光刻机巨头要反水？浏览器|javascript|创投圈

文章图片

文章图片

文章图片

光刻机是生产制造芯片的必要设备，可以说，光刻机的数量和先进程度决定了芯片的产能和制程精度。
全球范围内，目前仅有四家企业可以研发制造光刻机，而ASML的技术最为先进，因为其研发制造的DUV光刻机和EUV光刻机几乎占领了中高端市场。
但由于瓦森纳协议的缘故，导致ASML的EUV光刻机无法自由出货，芯片等规则被修改后， ASML的DUV光刻机也受到了约束。

根据ASML发布的消息可知， DUV光刻机面向特定厂商出货，一般情况下是不需要许可的，但在美生产制造的DUV光刻机则需要许可。
但由于国内是全球最大的芯片消费市场， ASML多次明确表示将加大在国内市场布局，向国内市场提供其能够提供的一切技术。
甚至ASML还加速向国内市场出货光刻机等设备，近年来已经出货超78台，其中23台光刻机都是在今年第一季度完成的。

结果谁没有想到的是，美如今又开始在光刻机方面做文章，要求ASML的控制国际主流光刻机的出货速度，尤其是向国内市场出货。
不仅如此，其还向尼康等光刻机厂商做出相同的要求，可以说是意图明显。
因为国内芯片产业发展很快，全球每新增20家企业，就有19家芯片来自国内，而今年前5个月，国内芯片进口总量直接减少283亿片，同比下滑明显。
这意味着越来越多的国内厂商在加速发展芯片相关技术，实现更多芯片自研自产。

尽管有新的压力落在ASML、尼康等光刻机厂商身上，但这两家光刻机巨头并没有做出表态，随后就外媒表示不表态就不想照做， ASML尼康这是要反水么？
其实， ASML、尼康等并不想被进一步限制出货，这可以从以下几点看出来。
第一点， ASML已经明确表示加速在国内市场布局，不仅计划扩大研发中心的规模，新增200名研发人员，下一步将把维修中心建在国内。
同时， ASML还一个劲儿扩大光刻机的产能，计划两年生产115台EUV光刻机， 2025年实现全球EUV光刻机的安装使用率超过60% ，为此都扩大了新加坡工厂的生产线。

甚至， ASML还加速推进全新一代High NA EUV光刻机，预计2023年完成原型机， 2024年交付厂商测试、使用。
无论是提升EUV光刻机产能还是加速推进全新一代High NA EUV ，都是为了实现EUV光刻机自由出货。
第二点，在光刻机市场，虽然尼康能够研发制造光刻机，但多数都是中低端设备，市场份额本身就较少。
为了进一步扩大市场，铠侠等联合日本光刻机厂商等推出NIL工艺，在不使用EUV光刻机的情况下，也能够将芯片制程缩小至5nm 。

要知道，铠侠等厂商有意在全球范围内推广NIL工艺，用于生产储存芯片和非储存芯片。甚至有消息，尼康等与国内厂商联合研发更先进的光刻机。
最后，芯片等规则被修改后，很多企业不能自由出货，这已经导致不少企业反感，于是，不少企业纷纷自研更为先进的芯片技术。
其中，荷兰计划投资11亿欧元研发光电芯片技术，德国也展开相关课题研究，欧盟更是联合投资430亿欧元到芯片半导体领域内。

可以说，很多芯片企业都在降低对美技术的依赖，甚至是想完全摆脱美技术，自然是不想被进一步约束出货。