6月17日早间消息 ， 台积电在今日举办的2022技术论坛上 ， 首度推出下一代先进制程N2 ， 也就是2nm 。
技术指标方面 ， 台积电披露 ， N2相较于N3 ， 在相同功耗下 ， 速度块10~15%；相同速度下 ， 功耗降低25~30% ， 开启高效能新纪元 。
就纵向对比来看 ， 2nm之于3nm的提升 ， 似乎不如3nm之于5nm ， 包括但不限于性能、功耗、密度等所有核心参数 。

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【终结FinFET晶体管！台积电正式公布2nm：功耗降低30%】在微观结构上 ， N2采用纳米片电晶体（Nanosheet） ， 取代FinFET（鳍式场效应晶体管） ， 外界普遍认为 ， 纳米片电晶体就是台积电版的GAAFET（环绕栅极晶体管） 。
台积电还表示 ， N2不仅有面向移动处理器的标准工艺 ， 还会有针对高性能运算和小芯片（Chiplet）的整合方案 。

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时间节奏方面 ， N2将于2025年量产 。
另外 ， 根据台积电最新技术路线图 ， 第一代3nm（N3）定于下半年量产 ， 3nm也会比较长寿 ， 后续还有N3E、N3P和N3X 。

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