光刻机|EUV光刻机,再见( 二 )


前段时间 , 华为业绩发布会上关于芯片再次提出思路 , 将会采用多核架构的芯片 , 就是用堆叠、面积换性能 。 其实 , 就是要将先进封装应用其中 , 实现高制程芯片的功能 。
大陆的上海微电子已经交付了首台2.5D/3D封装光刻机 , 封装方面已经不受限制 。

先进封装技术的兴趣 , 将会进一步降低EUV光刻机的依赖 , 一定程度上可以摆脱EUV了 。 不仅如此 , 国内相关机构还加快突破EUV相关技术 , 将会尽快实现国产EUV 。
我们多管齐下 , 可以说就不需要ASML的EUV了 , 因此外媒才说:再见 , ASML!