光刻机|风向变了！EUV光刻机时代即将翻篇( 二 ) 芯片|it芯片

虽然理论上90nm光刻机通过二次曝光，可以制造45nm芯片，三次曝光可以制造22nm芯片，但曝光次数越多，良率也越低，也就没有了商业价值。

暂时看来，中国还离不开ASML ，即便是无法买到他们的EUV光刻机，但能买到DUV光刻机也是不错的。

然而，美国又要下手了，这一次美国建议荷兰直接与中国划清界限，不仅不出口EUV光刻机给中国，甚至连DUV光刻也不出售给中国，连其他二手中低端光刻机，也不要出售给中国。

幸好，荷兰直接表态拒绝了，称“荷兰不会照抄美国的制裁新规，会有自己的考量” ，也就是说荷兰大概率是不会理会美国制裁新规，而是延续原来的制裁规定了。

这也是必然的，因为只有这样才是对荷兰和ASML最有利。

首先， EUV光刻机是肯定不能出口给中国的，因为这是美国的底线，如果踏过了这条底线，荷兰及ASML恐怕会遭受到类似于中国的待遇。

其次， DUV光刻机肯定是要继续出售给中国的，在EUV光刻机过剩的情况下， DUV光刻机成了荷兰ASML最先进的设备，而中国正是近期DUV光刻的最大需求方，荷兰和ASML不可能放过这些生意。

最后，荷兰和ASML虽然占据了光刻机的绝大多数市场，但并非没有对手，出去上海微电子，日本佳能、尼康同样能生产中低端光刻机，如果荷兰ASML不提前强占市场，或许以后就没有机会了。

不过，能够代表高科技的，还是先进制程工艺芯片，所以EUV具有很高的战略地位，只是受限于美国，一般国家都很难拿到EUV光刻机。

除了中国之外，日本或许是最不甘心的那个，因为以前光刻机的龙头企业是在日本的，巅峰时期全国前十的芯片企业，有6家是日本的。

如今，日本同样没有EUV光刻机，而且未来很长一段时间应该也是拿不到EUV光刻机的，于是他们想到了绕开EUV光刻机来实现先进制程工艺芯片的生产。

去年，日本铠侠公司联合佳能公司就宣布，已开发出可以替代EUV光刻机的“纳米压印微影技术（NIL）” ，进而在没有EUV光刻机的前提下，实现5nm工艺芯片的生产。

中国封测企业通富微电也找到了新思路，那就是通过芯粒技术，将两颗芯片连接在一起，实现等同于5nm芯片的性能，这一技术甚至可能会成为先进制程工艺的主流。

因为物理是存在极限的，一味地开发3nm、2nm芯片工艺，投入和产出或许会不成正比，缺乏商业价值，反而是芯片连接来的更有意义。

更关键的是，这样就有机会绕开EUV光刻机了，也就绕开了美国的卡脖子行为。

除此之外，美国芯片巨头镁光也传来了一条消息，镁光绕开EUV光刻机，生产出了高性能的DRAM芯片，相比于原来的芯片能效提升了25% ，功耗降低了20% ，储存密度提升了30% ，这也侧面正面了华为芯片堆叠技术的可能性。

或许，在不久的将来， EUV光刻机就不能成为制约芯片发展的存在了，届时EUV光刻机的时代也将结束，正是进入下一个技术时代。

在新的时代，中国并不需要惧怕谁，毕竟华为能够用短短数年时间，就造成堪比苹果A系列的芯片，超越同代的高通、联发科，已经证明了中国芯片设计的能力。

当大家都从同一起跑线起跑时，相信华为将成为新赛道的冠军，而中国也会借此成为新的芯片大国，不仅不再惧怕卡脖子，甚至还能引领一个时代。