光刻机|中国造出“新型光刻机”，可实现22nm工艺制程，已投入使用！芯片|it芯片

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芯片是高精密集成电路的体现，也是现代电子工业发展的顶尖水平代表之一。制造高精度制程的芯片，需要优质光刻机，而世界上有高级光刻机的国家，美国禁令不准向中国出口。

中国科学院光电研究所，造出新型超分辨率光刻机，能够实现22NM工艺制程，现在已经投入使用，现在我国在光刻机领域取得的突破，能够实现高分辨，大面积的纳米光刻研发路线，等于是闯出了一条新路子，能够绕开国外同领域的知识产权壁垒和阻碍，形成具有我国专利技术的光刻机生产新模式。
尤其这款超分辨率光刻机还有一个喜人的消息，目前最高线宽分辨率为22nm ，一旦突破分辨力的衍射极限的情况下，未来能够生产10NM制程精度的芯片。这意味着我国芯片领域也看到了研发成功的曙光，而且进展的速度是非常快的。

现在这款超分辨光刻机通过了严格的检测和验收，已经投入使用，能够进行生产芯片。
我国的芯片领域发展缓慢，最重要的原因就是受制于光刻机，我国自己没有先进的设备，国外又不出口给我国，导致我国在这个领域的水平处于落后的局面。
目前取得的成就，是中科院光电所科研团队，经过了长达7年时间的攻关和研发，才获得了阶段成果，接下来为了更高制程精度的芯片助力，会继续进行设备研发的相关工作。这台设备在很多项关键技术方面，都攻克了难题，是分辨力最高的紫外光源，波长为365纳米，曝光线宽分辨力是22纳米。

光刻机分辨力越高，能够生产的芯片集成度，也就是制程精度就会越高。现在我国在光刻机研发方面，已经走出了具有中国科研特色的自主研发之路，未来会继续突破传统的研发框架，创新研究，为提升更好的设备水平，进行不断的优化和提高。
未来在技术取得新的进展之后，可用于制造10纳米精度制程的芯片！这对我国目前只有28纳米成熟技术的芯片制程来说，是非常大的激励和进展。
【光刻机|中国造出“新型光刻机”，可实现22nm工艺制程，已投入使用！】
光刻机是怎样工作呢？当设计好的芯片图案定型，使用光刻机的光源，在芯片上进行刻录，这个过程说起来并不复杂，看上去也简单，但是实施起来，世界科技却整整走过了50多年的时间。国际方面才有最先进的5纳米制程精度的芯片，以及7纳米制程精度的芯片。
作为世界最先进的3纳米芯片，韩国三星电子，和已经搬到了美国的台积电，都嚷嚷了两三年的时间了，还是只打雷没看到下雨，没有量产的行动和实际产品上市，这也说明，精度越高的芯片，工艺制程越复杂和难以实现，面临的技术难题和加工工艺要求就越多。

目前世界上的顶级光刻机企业是荷兰的阿斯麦，这家企业自然也接到了美国的限制禁令，不准许阿斯麦把顶尖的光刻机出口给中国，就为防止中国得到新设备的助力后，在芯片领域有新的技术突破，美国政府甚至向荷兰政府直接施加压力，目的让荷兰也要执行美国的限令，不要对中国出口光刻机。