可以绕开高端光刻机，国内研发精度已达0.65纳米，已登上国际杂志在芯片领域

在芯片领域，我国因为发展得比较晚，所以在很多方面都深受西方国家的限制，而随着我国各个企业、社会团队的不断努力，如今终于又有了新的突破，甚至还获得国际赞扬。

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1nm不是芯片发展终点
在晶圆代工领域，台积电和三星相当于垄断了该行业的发展，尤其是台积电，更是该领域的王者，双方就芯片技术的研究上一直是强有力的竞争对手，目前主要集中在3nm和2nm上。
而最近美国的一家企业在芯片技术研究上也达到了一个新的高度，那就是IBM公司已经对外宣布研发出了2nm芯片技术，此消息引起了全世界范围内的热议。
毕竟台积电和三星才是该领域的王者，而IBM公司率先在2nm芯片技术上有所突破，不免让人有些意外，但此项研究成果的出现，也预示着1nm不会是芯片领域发展的终点。
之前市面上普遍认为芯片研究的顶峰其实也就是1nm了，此数值代表的是晶体管之间的距离，如果它们之间的距离太近的话，势必会影响其芯片的正常运行，对芯片的质量会产生很大的影响。

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湖南大学研制芯片精度达到0.65nm
我国在芯片领域的研究脚步也从未停过，尤其是IBM公司作为美国企业中的一员，如今在中美经济竞争紧张的形势下，势必会阻碍我国芯片事业的发展，至此我国在该领域的研究也有了新的成果。
据悉最近湖南大学的专业团队公开表示，其研究的垂直型晶体管已经可以使芯片工艺级别达到0.65nm ，如今我国在芯片技术领域的该项研究，更是向世界证实了1nm不会成为芯片的发展尽头。
对于传统的晶体管而言，在布局方式上是平行的，如果想要提高芯片的级别，则需要对它们之间的距离进行持续性缩小，这也就预示着对于光刻机的要求也会不断提高。

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而新研发出的这种晶体管采取的是搭积木的方式进行，与平行晶体管有着本质上的区别，不需要借助高端光刻机就可以完成，至此我国在该领域取得了巨大进展，也在一定程度上打破西方国家的封锁。
据悉目前该研究相关论文已经在国际杂志上发表，获得全世界的关注和认可，不过该技术现在还仅仅是停留在实验室阶段，具体什么时间被真正运用还有待观察。
结语
【可以绕开高端光刻机，国内研发精度已达0.65纳米，已登上国际杂志】不管怎样说美企IBM研制出的2nm芯片技术目前也没有实现量产，投入使用，我国在该领域的研究进度上已经超过美国企业，相信随着湖南大学团队继续研究和其他行业内企业的共同付出，我国一定可以在半导体行业实现更好的发展。