单反|用于量子芯片的光刻机、刻蚀机，EDA，我们都研发成功了单反

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众所周知，目前的硅基芯片已经快要发展到极限了，台积电、三星目前已经实现了3nm的量产，而科学家们预测硅基芯片的物理极限是1nm 。
而从3nm到1nm之间，也就只有2nm这么一代工艺了，之后就再难前进了。
那么在硅基芯片之后，业内认为下一个发展重点就是量子芯片，与普通的硅基芯片相比，量子芯片的性能、计算容量强大太多了。

举个最简单的例子，在2019年的时候，谷歌就表示，当时世界第一超算Summit需要大约1万年来完成的计算，量子计算机只需要3分20秒就能完成。
还有中科大在2020年的时候表示，九章量子计算机在200秒内成功完成了高斯玻色子采样，最多检测到76个光子，如果用国内最强的神威太湖之光这台超算来计算，需要25亿年的时间。

量子计算机之所以这么强的原理我们就不多说了，但从这些可以看出来，掌握量子霸权有多重要，而掌握量子霸权，最重要的就是要能自主研发、生产量子芯片，不再能像硅基芯片时代一样，像光刻机、EDA等等设备，全部掌握在美国手中，被卡住脖子。
所以一直以来，在量子计算领域，国内的科学家、机构、企业们就一直坚持自主研发，要将关键的技术、设备等全部掌握在自己的手中。

现在看来，制造量子芯片的“光刻机”、“刻蚀机”、EDA软件，我们都自研出来了。
制造量子计算的光刻机是什么东西？叫做“无损探针仪” ，它是用来发现量子芯片的优劣，可实现量子比特电阻快速精准测量，它的应用，可以缩短量子芯片的研发周期，提高量子芯片良品率，目前安徽省量子计算工程研究中心已研发出了NDPT-100无损探针仪。
而“刻蚀机”叫做“激光退火仪” ，它是与“无损探针仪”对应的， “无损探针仪”发现量子芯片中次品等，再通过“激光退火仪”来精准剔除量子芯片中的“瑕疵” ，提升量子芯片的良品率。安徽省量子计算工程研究中心研发出了MLLAS—100激光退火仪。

另外，本源量子还发布了国内首个量子芯片设计工业软件“Q—EDA”本源坤元，还已建设全国第一条量子芯片生产线，基于这些自研的技术，已经实现了我国量子芯片的自主研发及产业化。
【单反|用于量子芯片的光刻机、刻蚀机，EDA，我们都研发成功了】当然，目前量子计算机距离严格意义的大规模商用还为时尚早，还需研究人员们持之以恒地探索，但至少目前我们没有落后，希望后续在量子计算上不会有硅基芯片这般被人卡脖子的痛苦。