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我国可以量产的是90nm制程工艺的光刻机 , 全球最先进的是荷兰ASML的7nm EUV光刻机 , 可以说我国的光刻机技术与世界先进水平还有很大的差距 。 但是 , 还有一个问题 , 即便有钱 , 也很难买到最先进的7nm EUV光刻机 , 下文具体说一说 。
资料显示 , 我国生产光刻机的厂商是上海微电子(SMEE) , 成立于2002年 , 目前所生产的光刻机 , 主要用于90nm及其以下芯片制造工艺 , 几乎垄断了全球低端光刻机市场 , 占到了全球80%以上的市场份额 , 但是在高端光刻机领域为零 。
上海微电子与荷兰ASML在光刻机领域的差距 , 反映了我国在精密制造领域的差距 , 一台全球顶级的光刻机的关键零部件来自西方不同的发达国家 , 美国的光栅、德国的镜头、瑞典的轴承、法多的阀件等等 , 更麻烦的是 , 这些零部件对我国是禁运的 。
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因此 , 上海微电子只能先做好中低端光刻机 , 毕竟80%以上的芯片并不要高端光刻机 , 做好了中低端 , 生存下去 , 然后慢慢培养国内零部件厂商 , 向高端光刻机领域发展 。
购买高端光刻机“一波三折” , 最先进的EUV光刻机全球只有荷兰的ASML能够生产 , 售价超过了1.5亿美元 。 我国的中芯国际早在2017年就预定了一台7nm EUV工艺的光刻机 , 预计2019年年初交货 , 但是到了2020年 , 仍然未交货 。
第一次延期:2018年12月 , ASML的主要元器件供应商Prodrive工厂发生火灾 , 中芯国际预定的光刻机延期 。
第二次延期:出售EUV光刻机需要荷兰政府发放许可证 , 在美国的种种施压下 , 先是对这台光刻机进行审计 , 只要美国制造的零件占到25%的价值 , 就需要美国出口许可证;再是以“国家安全”为由 , 拿出了《瓦森纳协议》 , 企图封杀这笔订单 。 所以 , 至今中芯国际仍未收到这台7nm EUV光刻机 。
总之 , 我国光刻机与世界先进水平的差距 , 主要是制造工艺的差距 。 虽然 , 武汉光电研究中心已经突破了9nm光刻技术 , 但是在关键零部件、材料等方面仍然无法满足量产的需求 。 这也印证了一句话“自己有才是真的 , 只有你突破了技术 , 就没有人能卡住你的脖子” 。
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