芯片|美国芯片实力到底有多强?三星3nm良率只有20%,靠美企出手解决

芯片|美国芯片实力到底有多强?三星3nm良率只有20%,靠美企出手解决

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芯片|美国芯片实力到底有多强?三星3nm良率只有20%,靠美企出手解决

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众所周知 , 光刻机是荷兰ASML的 , 先进制程是台积电的 , 在芯片制造领域 , 美国似乎没有什么响当当的大公司 , 那凭什么美国芯片技术就能执天下牛耳?
最近 , 三星遇到的问题 , 或许能帮助大家解释这一点 。

今年年中 , 三星宣布率先量产基于GAAFET的3nm制程 , 大有弯道超车台积电的发展趋势 。
然而 , 到了11月 , 有媒体爆出 , 三星3nm的良率不超过20% , 如此低的良率 , 给三星雄心勃勃的3nm发展计划形成非常大的阻碍 , 再叠加此前因为代工骁龙888、骁龙8gen1遭遇“发热”的问题 , 三星不得不郑重审视这件事 , 终于在11月中旬 , 三星远赴美国 , 找了一家半导体设计EDA公司着手解决问题 。
这家公司的名字就叫作Silicon Frontline , 三星寄希望与这家美国公司的合作 , 提升代工良率 。

Silicon Frontline的业务主要是提供半导体设计和验证的解决方案 , 换大家能够理解的名词 , Silicon Frontline是一家EDA企业 , 专门制造芯片、测试芯片相关的模拟EDA软件 , 这家公司的主要能力体现在半导体静电放电(ESD)的预防技术 。
11月15日 , Silicon Frontline正式成为三星代工厂的合作伙伴 , 按照三星技术副总裁的说法 , 随着芯片越做越小 , CDM(带电测试仪模型)设计就变得越来越难 , 而Silicon Frontline的ESD能够提前进行风险检测 , 帮助三星实现全芯片的ESD验证 。

静电 , 顾名思义 , 很多人都见过 , 但对芯片来说 , 小小的一个静电很有可能会让整个晶圆报废 , 这里面既有外源性的HBM(human body model , 人体放电模型) , 也有设备内源性的CDM(Charge device model , 带电设备模型) , 经统计 , 静电放电(ESD)造成的故障 , 占半导体总故障的25% , 因此在芯片设计、制造、封装过程中 , ESD保护是个非常重要的考虑因素 , 在目前芯片制造向先进制程发展的道路上 , 很多难点、痛点都汇聚到了ESD身上 。 正因为如此 , Silicon Frontline的全芯片ESD解决方案就变得非常重要 , 它能够通过软件模拟 , 识别芯片ESD保护电路中的薄弱点 , 进而帮助半导体企业优化芯片设计 , 预防静电对半导体的破坏 。
根据行业人士透露 , 因为引入了Silicon Frontline的解决方案 , 三星的3nm获得了不错的测试结果 。

这就是一家美国芯片公司的实力 , 根据Silicon Frontline的官网介绍 , 他们是目前业界唯一可以提供全芯片瞬态HBM、CDM ESD分析解决方案的公司 , 除了三星之外 , 台积电也是这家公司的客户 , 全球前25家半导体公司的12家 , 都在使用Silicon Frontline的产品和技术 。
话说回来 , 目前 , 美国Synopsys、Cadence、Siemens EDA三大巨头垄断了全球接近70%的EDA市场 , 而除了这些知名公司之外 , 还有诸如Silicon Frontline等美国企业在局部市场占据技术领先优势 , 如果不是三星在3nm制程上遇到困难 , 外界很难了解到像Silicon Frontline一样名不见经传的美国高科技公司 , 帮助我们尽可能全面的了解美国的半导体制造实力 。
【芯片|美国芯片实力到底有多强?三星3nm良率只有20%,靠美企出手解决】只要我们能深刻了解到自身与对手的技术差距 , 才能在日后有的放矢 , 更好地取长补短 。