阿斯麦尔|绕过光刻机生产10nm芯片？日企助力中国市场，ASML坐不住了！芯片|光刻机|it芯片

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在全球经济一体化的时代，没有哪个国产可以脱离全球化独善其身。然而由于我国科技发展迅猛，尤其是在5G、通信等方面大有超越美国的势头，于是美国开始对我们进行制裁、断供，企图切断整个芯片产业链，来彻底打压中国芯片行业发展！

其中ASML和台积电就成为了美国的两个“棋子” ，不允许台积电给华为代工麒麟芯片，限制ASML的EUV光刻机进口，这样就可以将我国芯片产业的脖子死死卡住！

纵观我国芯片产业链，其中最薄弱的就是光刻机环节了，目前我国的上海微电子的光刻机目前还处在90nm水准，而ASML已经实现了3nm工艺了，差距可谓是巨大。国产光刻机想要突破至10nm以内，恐怕至少需要5年甚至10年的时间，短期内根本没有任何希望。
以前ASML对美国言听计从，甚至连总部都搬到了美国。然而最近ASML的态度却来了180度大转弯，不仅拒绝了美国关于收紧ASML对中国光刻机出口的要求，反而在2022年第一季度一口气向中国交付了23台光刻机，这种“报复性交付”的方式，把美国的脸都打肿了！

那么为什么ASML的态度发生如此大的转变呢？主要原因是ASML的强大的竞争对手出现了，自己的光刻机技术遭到了毁灭性的打击！根据东京理工大学的学者介绍，目前日本企业已经实现了对于纳米压印技术的突破，可以用于10nm及以下的芯片生产。其实早在很多年之前，日本就研发了NIL技术，并用于日本的铠侠存储芯片，目前已经将工艺推进至15nm ，并且向10nm突破，日本学者的介绍可以看出，日本企业已经突破了10nm技术，量产在即！而且日本方面认为NIL技术至少可以推进至5nm！

还记得之前中国学者去参观ASML光刻机时被鄙视，说：“哪怕给你们图纸，你们也造不出光刻机来” 。而ASML最终会为他们的傲慢买单，造芯片不是只有光刻机这一种方案，日本的NIL工艺就是绕过了光刻机实现了对10nm芯片的生产！
所以ASML最担心的事情发生了， ASML很害怕中国会绕过光刻机，直接采用NIL工艺生产芯片，那么ASML的地位将彻底不保，这也是ASML不顾美国反对坚持向中国大批量交付DUV光刻机的原因！

【阿斯麦尔|绕过光刻机生产10nm芯片？日企助力中国市场，ASML坐不住了！】在美国的围追堵截下，华为麒麟芯片回归遥遥无期。而日本的NIL工艺的存在，给华为芯片找到了一条全新的道路。如果真的能用这一工艺生产华为麒麟芯片，那么华为手机一定会王者归来，美国将彻底沦为“纸老虎”！