阿斯麦尔|国产芯片传来好消息，事关7nm制程，外媒：难怪ASML坐不住了芯片|光刻胶|光刻机|it芯片

文章图片

文章图片

文章图片

文章图片

自从芯片规则被修改后，我国半导体产业“缺芯少魂”的短板就被无限放大，尤其是晶圆制造这项重资产领域，与国际顶尖水准有着不小的差距。就连台积电张忠谋都公开发声，称大陆晶圆代工产业，至少落后台积电五个隔代以上。
之所以出现这种情况，一方面是由于国产芯片起步较晚，另一方面，则是早期“买办”观念盛行，很多国内科技企业宁可选择高价进口，也不愿意去自主研发。这形成了一种“恶性循环” ，导致我们在核心设备材料方面持续落后，有些甚至是处于空白局面。

例如光刻胶材料，被称为芯片制造的“燃料” ，其主要作用是涂抹在晶圆上，保护衬底基座，从而提升光刻机曝光显影的效果。光刻胶与芯片性能、良率都有着密切的联系，其重要性不言而喻。
在全球中高端光刻胶市场，能做到自给自足的地区只有美国和日本，尤其是信越化学、东京应化、合成橡胶等日本企业，几乎处于行业垄断地位，市场占有率超过了90% 。而国内光刻胶的自给率却不足5% 。

中芯国际、华虹半导体等国内晶圆代工厂商，过去所用到的光刻胶材料基本都是来自这些日企。但让人气愤的是，在老美打压华为等中企之际，日本企业也“落井下石” ，信越化学在去年中旬就对外宣布，不再向部分指定的中企出口光刻胶产品。
面对这种情况，研发属于我们自己的光刻胶产品就成了国产半导体的当务之急，国家更是把光刻胶材料列入了重点科研项目。

功夫不负有心人，就在近期，国产光刻胶传来了好消息。据媒体报道，承接光刻胶研发二期项目工程的南大光电对外宣布，公司研发的Arf光刻胶产品已经通过了技术认证，支持7nm制程，可应用于储芯片和逻辑芯片制造等诸多关键领域，且交付给了下游客户。
对于爬坡阶段的国产芯片而言，南大光电的此次突破意义重大。要知道， 7nm芯片制程是DUV光刻机的极限工艺，台积电早期就是通过多重曝光技术实现了量产，其中Arf光刻胶提供的技术反馈，起到了关键性作用。
这意味着，在补上Arf光刻胶材料这项短板后， DUV光刻机的落地进程也将会提速，国内芯片市场接下来完全有机会在14nm制程的基础上更进一步。

对此，有外媒表示，难怪ASML坐不住了，不顾老美禁令，也要向大陆市场出口DUV光刻机。
我国拥有着全球最大的半导体消费市场，在自主造芯潮流的推动下，对光刻机的需求规模非常庞大。然而，老美却把ASML当作成了打压中企的“工具” ，不仅限制它对中企出口EUV光刻机，而且近段时间还再次向荷兰施压，要求ASML连DUV等主流光刻机也不再卖给中国。

但让老美没料到的是， ASML此次态度大变，在拒绝老美的同时，还强硬表态自己是一家欧洲公司，会继续加大在中国市场的布局。
据公开资料显示，从去年至今， ASML已向大陆市场出口了78台光刻机，而且把在中国设立的办事处也扩大到了15个，其员工规模更是突破了1500人。