光刻机|外媒：ASML也没有料到，EUV光刻机正在被全球“抛弃” 阿斯麦尔|芯片

【光刻机|外媒：ASML也没有料到，EUV光刻机正在被全球“抛弃”】

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在大众的认知中，生产7nm及以下制程的芯片必须要用到EUV光刻机，目前先进的EUV光刻机只有ASML一家可以量产，而造成这个情况出现的主要原因就是， EUV光刻机的制备过程极其复杂，从里到外需要用到10万多个零部件。关键是，这些零部件来自全球5000多家顶级供应商。

也正是因为拥有制备EUV光刻机设备的能力， ASML才能常年立足于光刻机制造领域而不败。据相关数据显示， ASML在高端光刻机领域的市场份额高端80%以上， EUV光刻机更是有百分之百的市场份额。
然而，行业的领先并没有给ASML带来丰厚的利润，反而变成了阻碍发展的“篱笆” 。要知道， ASML生产的EUV光刻机是一件全球化的产物，其中有很多技术和零部件来自美国。而自从芯片规则被修改后， ASML就失去了出货自由的权利，尤其是不能出货给中企，让ASML有苦难言。

庆幸的是， ASML生产的DUV光刻机不受限制，被允许自由出货。今年第一季度， ASML就向中国市场出货了23台DUV光刻机。可万万没想到，老美又再一次“加码” ，希望ASML收紧出货范围，涉及DUV光刻机，并彻底与大陆市场说“拜拜” 。
尽管ASML方面表示，会持续向中国市场出货DUV光刻机。但是在外界看来， ASML和美国就是在唱“双簧戏” ，一个唱白脸，一个唱红脸，目的也很简单，向大陆市场倾销DUV光刻机等中低端光刻机，以此来扰乱国内相关企业的良性发展，比如上海微电子。

其实，自从中芯国际采购EUV光刻机无果后，全球半导体市场就迎来一场绕开EUV光刻机的浪潮，甚至连美国半导体企业也加入其中。首先是美光和Zyvex Labs这两家美国企业，前者已经研发出可以绕过EUV光刻机的新技术——1-beta制造工艺，后者推出了高分辨率的亚纳米级光刻机，也可以绕过EUV光刻机制造出0.768nm的高端芯片。

其次，作为全球第一大芯片代工厂，台积电邀请美光、三星和SK海力士等19家巨头组建了3D Fabric联盟。据悉，该联盟的主要目的就是降低对EUV光刻机的依赖，而美企超威半导体也已经发布了一款基于3D封装技术制造的GPU芯片。
最后，日本佳能和铠侠正在研发纳米压印技术，最快到2025年就可以与ASML的EUV光刻技术一较高下。可以说，如果这项技术能够取得突破，那么有可能改变目前半导体行业的走向。

除此之外，中国第一条“多材料、多尺寸”的光子芯片生产线也计划在2023年落地商用。再加上，华为先后申请的芯片叠加专利和超导量子芯片专利。关键是，这些新技术和设备都在脱离ASML生产的EUV光刻机设备。
值得一提的是，俄罗斯也正在计划研发一种新型光刻机——X射线光刻机，只不过生产效率极低，不适合量产高端芯片。

也正是以上几条重要消息，外媒才说ASML也没有料到， EUV光刻机正在被全球“抛弃” 。因为事实证明， EUV光刻机并不是唯一可以制造7nm及以下制程芯片的途径，无论是3D封装技术也好，还是光子芯片、量子芯片也罢，再或者是奈米压印技术、1-Beta工艺、X射线光刻机等，只要其中有一条路被走通，那么ASML的好日子就算到头了。对此，你们怎么看？欢迎大家留言点赞分享。