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LamResearch最初的目标是在5nmIMEC节点（代工厂为3nm）上使用 。 他们与IMEC和ASML合作进一步开发这项技术 。 Lam还与三星、英特尔、台积电和SKHynix合作 ， 将该技术用于逻辑节点和DRAM节点的商业化 。 这显然很有希望 。
面对汹涌袭来的新挑战者 ， 东京电子和光刻胶老牌企业并没有坐以待毙 ， Inpria就是其中的代表 。 他们开发了一种新型光刻胶 ， 金属氧化物抗蚀剂(MOR) 。
【三巨头决战EUV光刻胶】Inpria于2007年诞生于俄勒冈州立大学研究中心 。 此后 ， Inpria获得了来自三星、英特尔、应用材料、台积电、SKHynix、JSR和TOK的大量投资 。

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