半导体|光刻机：一枝独秀！( 二 ) 阿斯麦|光刻机|光刻机：一枝独

2012年， ASML营收仅为47.32亿欧元，到了2016年就已经增长至68.75亿欧元，由此来看， 2012-2021十年间， ASML营收成长率高达295.7% ，而2016-2021五年间，成长率则为169.6% 。事实证明，现实数据只会更加惊人。
想要实现这样的营收预期，产能的扩充自然是必不可少的。一直以来， ASML的光刻机都处于一个供不应求的状态，产能越多，营收才能更多，尤其那些适用于先进制程的EUV、High NA EUV设备，虽然制作难度上升，但相对的价格也是水涨船高。
从ASML扩产计划来看，到2025-2026年EUV年产能增加到 90 台，过去十年间， ASML EUV出货量从2012年的1台，增长到了2021年的42台，随着产能的增加，未来五年/十年EUV的出货量肯定也会取得显著增长。
到2027-2028年， ASML还计划将 High-NA EUV 产能增加到 20 个系统，据路透社此前报道,新一代High-NA EUV设备订价约4亿美元，上一代EUV光刻机售价大约1.2亿美元，这就意味着High-NA EUV设备售价提升了两倍多。
今年年初ASML收到来自英特尔的最新款High-NA EUV「EXE:5200」首张订单，英特尔预计到2025年该设备加入量产，除英特尔外，目前台积电、三星等一线晶圆厂也都已预购了High-NA EUV。
与EUV/High-NA EUV相比， DUV就便宜了很多，平均每台售价约0.28亿欧元，但这并不妨碍其成为此次扩产的主力军。ASML计划到2025-2026年， DUV 系统的年产能增加到600个，几乎是2019-2021年ASML 3年的DUV出货总量。
数据显示， 2021年ASML共出货了234台DUV光刻机， 2020年共出货193台， 2019年共出货169台，三年总计596台，可见此次ASML扩产力度不可小觑。
佳能：产能翻番
在光刻机的扩产方面，并不是只有ASML在行动， “落魄”的光刻机贵族佳能居然时隔21年宣布扩产计划。之所以说“落魄” ，想必大家都知道，佳能光刻机在上世纪也是一方霸主的存在，但在干湿路线之争之后，佳能就有些赶不上ASML的步伐了，尤其在EUV设备领域，更是难以望其项背。
在过去相机是佳能的主营业务，但近些年全球数码相机业务持续下滑，佳能也难免受到冲击，而光刻机业务却逐渐成为了增长动力，毕竟据华尔街日报去年年底报道， 1995年制造的二手光刻机佳能FPA3000i4 ，在2014年10月只值10万美元，今天则值170万美元，涨价17倍。二手的都这么抢手，一手的更不用多说了。
目前，佳能主要在宇都宫事务所（宇都宫市）和阿见事务所（茨城县阿见町）等2处日本工厂生产半导体光刻设备，专注于i-line到KrF的低端光刻机系列。佳能财报显示，未来随着半导体设备投资的增加，佳能的光刻机业务还会持续增长。
或许是觉得“与其让黄牛赚这个钱还不如让我自己赚” ，又或许是受到地缘政治的影响，也有可能是力压的NIL（纳米压印光刻）技术有了突破性进展，总之，这个曾经的光刻机龙头时隔21年宣布扩产。
据日经新闻网10月初报道，佳能将在宇都宫事务所内约7万平方米的空地上建设半导体光刻设备的新工厂，包括厂房建设费用和生产设备在内的总投资额预计达到540～560亿日元左右，将于2023年内开工建设，产能将提高至现在的2倍，力争2025年春季投入运行。