光刻机|光刻机规则更改5天后，“戏剧性”的一幕发生了芯片|半导体|it芯片

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芯片被誉为“工业粮食” ，这足以看出它在经济发展和工业生产中的重要程度。如今工业生产开始进入智能化或半智能化，这就要用到大量的芯片。此外，芯片还被广泛应用于在通信、计算机、科研、金融、AI等等重要领域。

但老美不断修改“芯片规则” ，高端芯片和技术被禁止向我国企业提供，我国便加大了在半导体领域的布局。
随着我国芯片产业链的逐渐完善，我们也实现了一定的芯片自给率。我们如今已经能实现28nm、14nm等成熟工艺的批量生产，下一个目标是10nm制程的量产。但由于老美“芯片规则”的限制， ASML无法对我们自由出货EUV光刻机。

光刻机的精密度关乎芯片制程的边界，一般来说，到7nm以下制程就要用到EUV光刻机了，没有EUV光刻机想实现7nm以下制程几乎不可能。
如今在国内上下一心的共同推进下，我们的半导体产业涨势迅速。去年我国工商登记的半导体企业就有4.6万家，同比增加107% 。据“环球时报”报道，去年全球20家增速最快的半导体企业中我国企业就占了19家。

老美计划进一步对芯片规则进行修改， “戏剧性”的一幕发生了但近日有消息传出，老美正在将“芯片规则”进一步修改，连DUV光刻机也不得向我国企业出货。
据悉，老美正在对ASML进行游说，要求其不再对我国企业出货DUV光刻机和其他芯片生产的相关设备。但当时荷兰政府表示，进一步禁止出货将会增加荷兰与我国之间的贸易矛盾。 ASML也表示，限制对我国的出货并没有什么好处。

DUV光刻机虽然不如EUV光刻机先进，但是制程涵盖范围很广，涵盖10nm以上制程芯片的生产。
但就在老美修改芯片规则五天后，又对芯片规则再次修改。
根据海外媒体报道，老美正在重新修改“芯片规则” ，重新定位限制的工艺节点，将范围确定在14nm 。换句话说， 14nm以下支持更先进工艺的设备不得出售给中企，这远非五天前禁止销售整个DUV光刻机的程度。
老美为何重新限定节点对于老美重新限定节点，主要原因有两个。

首先，随着我国半导体产业的快速发展，国产化供应链也在逐渐完善，在光刻设备和技术上有了很大的突破。在“芯片禁令”的影响下，越来越多企业更愿意使用国产产品。从近三年的数据统计来看， 2020年我国国产设备的比例为16% ， 21年为27% ， 22年截至6月就达到了35% ，预计今年将突破40% 。
在光刻设备上，上海微电子已经成功研发出28nm光刻机，目前已经完成认证和测试环节，将在今年下半年或明年交付商用。

除了光刻机，在其他光刻设备上我们也有了很大的进步，如今中微半导体已经成为当之无愧的刻蚀机龙头企业，其刻蚀机已经用于台积电的5nm产线。
从这就充分表明，实现全面的限制并没有意义，这也是为什么老美将限制节点设在14nm的原因。
其次，在对我国限制芯片出货后，美芯企业损失惨重，美芯企业55%的芯片都是出口到我国，芯片禁令实际上对美芯企业造成的伤害才是最大的。