芯片|摆脱美国芯片锁喉！又一关键设备100%国产化，助力5nm良品率99.9% 光刻机|半导体|it芯片

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在过去数十年的时间里， “缺芯”是中国IT产业一直没有解决的问题，我国虽然是芯片消耗大国，但每年对芯片的进口却总额却能超过原油，可见我国对海外芯片的依赖程度。当然，我国也有芯片研发实力碾压西方的企业，但在芯片制造环节，一直被老美所垄断。

比如光刻机，这是芯片制造过程中的关键设备，这种设备集结了化学、光学、物理学等多领域顶尖技术，制造难度极其复杂，在这一领域ASML则是金字塔最顶尖的企业，垄断全球EUV光刻机市场。

然而，当中西科技竞争日益加剧，在老美的制约之下，高端光刻机无法进入国内市场，为此近年来国人对光刻机的关注度一直居高不下，但在国内研发人员的努力之下，组成光刻机的核心子系统也在一一被国人所攻克，比如清华团队与华卓精科推出的工件台，已经完全达到了EUV光刻机的要求；中科院的光学镀膜水平同样达到了世界领先水平，这为EUV光刻机镜头的制备打下了坚实的基础。

不过，除了生产芯片所用到的光刻机，其他芯片制造设备方面，国内企业也有肉眼可见的发展速度，比如决定芯片质量的测量设备。
关于测量设备，相信不少网友可能会忽略它的重要性，在生产芯片过程中，测量设备是控制芯片良品率的关键，芯片良品率越高，制造成本则会越低，而且成品芯片的功耗控制、性能也会越出色。

其主要功能是检查晶圆加工前后的参数是否达标，所以测量设备也涵盖了光学、声学和电学等多学科领域的顶尖技术，技术难度同样也很高。而在芯片制造测量市场，老美同样掌握着很高的话语权，美国的科磊半导体、美国应用材料和日本日立高新这几家企业掌握着全球70%以上的市场。

然而，令国人高兴的是，近几年国内企业在芯片测量设备方面同样获得了巨大突破，就比如国内的东方晶源，上海精测、睿励等。
众所周知，晶圆是芯片制造过程中的关键材料，晶圆的直径尺寸越大，生产出来的芯片数量则越多，全球半导体产业的不断加速，晶圆的直径从早期的6英寸，已经发展到了当下主流的8英寸、12英寸。晶圆尺寸的逐步提升，对检测设备的要求也越来越高，当12英寸的晶圆已经成为芯片制造企业普遍所用的主要材料，摆在国产芯片制造行业面前的需求就是12英寸晶圆的测量设备。

不过，国内确实有一些企业能达到这一水平，比如上海的睿励科学仪器（上海）有限公司，这是中微半导体所投资的企业。作为全球领先的蚀刻机制造企业，中微半导体能看上并投资上海睿智，可见这家企业的潜力。
早在2020年，睿智就推出了12英寸的光学薄膜测量设备，不仅拥有自己的知识产权，实现了100%国产化，而且良品率能达到惊人的99.9% ，性能完全可以与国际领先水平的设备相媲美，还获得了代工巨头三星的认可。

2021年6月，睿励在此前的基础上进行了功能的升级和完善，增加了反射测量模块和深紫外测量模块，带来了新一代光学膜厚量测设备TFX4000i ，这款设备适用于40nm、28nm、14nm、7nm ，甚至5nm工艺芯片制造的前后道，及10nmDRAM、3D NAND等生产线。