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光刻机制造技术最先进的厂商是ASML , 其研发制造的DUV光刻机和EUV光刻机几乎占领了中高端市场 。
尤其是EUV光刻机 , 其是生产制造7nm以下芯片的最优解 , 各大芯片厂商都争相购买 , 但EUV光刻机的产能却不足 , 关键是其也不能自由出货 。
据悉 , EUV光刻机被生产制造出来后 , 在没有许可的情况下 , 就不能自由出货 , 由于芯片等规则被修改 , EUV光刻机也不能出货到外企中国分厂 。
面对这样的情况 , ASML一直都在争取EUV光刻机自由出货 , 其已经多次明确做出表态 。
例如 , ASML表示其对全球厂商一视同仁 , 向国内厂商提供其能够提供的一切技术 。 同时 , ASML还加速在国内市场布局 , 并扩大研发中心的规模 , 建设维修中心等 。
为了尽快实现EUV光刻机 , ASML还明确表示 , 限制ASML等自由出货 , 只会加速其它厂商加速突破 , 10年之后 , 或许ASML就全面退出国内市场了 。
【AMD|事关EUV光刻机,ASML最终还是官宣了】
事关EUV光刻机 , ASML最终还是官宣了
目前而言 , ASML的DUV光刻机基本上可以自由出货 , 原因是其并非最先进的技术 , 而EUV光刻机是最先进的技术 。
于是 , ASML一直都在做两件事情 , 一件是提升EUV光刻机的产能 , 将EUV光刻机变成普及度很高的设备 。
于是 , 其计划今明两年量产115台EUV光刻机 , 并扩大了位于新加坡的光刻机生产线 , 并计划到2025年将EUV光刻机在全球的安装使用率提升到60% 。
另一件是加速研发推进更先进的EUV光刻机设备 , 据悉 , 其已经正式交付了首台NA值为0.55 的EUV光刻机 , 其可以更好地用于生产制造3nm、2nm等芯片 。
可以说 , ASML提升EUV光刻机产能 , 并加速推出NA值0.55的EUV光刻机 , 目的就是让EUV光刻机不再是最先进的技术 , 这样就能够实现自由出货 。
如今 , 事关EUV光刻机 , ASML还是官宣了 , 目的就是想加速EUV光刻机自由出货 。
ASML已经正式对外表示 , 现有技术能实现 1nm 工艺 , 摩尔定律可继续生效十年甚至更长时间 。
这意味着ASML正在研发制造比NA值为0.55的EUV光刻机更先进的设备 。
也就是说 , EUV光刻机可以将芯片制程推进到3nm , 而NA值0.55的EUV光刻机可以将芯片制程缩小至2nm等 , 而正在研发的更先进的EUV光刻机可以将制程缩小至1nm 。
在这样的情况下 , 现有NA 0.33的EUV光刻机就不再是最先进的设备 , 其情况就如同了DUV光刻机一样 , 自然也就能够自由出货 。
所以才说事关EUV光刻机 , ASML最终还是官宣了 。 毕竟 , ASML不能自由出货 , 也面临巨大的压力 。
其中 , 佳能、铠侠等厂商已经推出了NIL工艺 , 2025年就能够生产制造5nm芯片 , 并计划在全球范围内推广该技术 , 该技术基本上可以替代EUV光刻机了 。
另外 , 华为等厂商都在研发推进光电芯片 , 该技术可完全绕开美技术 , 如果ASML的EUV光刻机迟迟不能自由出货 , 必然会加速光电芯片的到来 。
而且 , 荷兰已经投资11亿欧元用于研发光电芯片等技术 , 德国方面也已经开始展开相关光电芯片的课题研究 , 可以说 , 光电芯片的大幕已经全面拉开了 。
在这样的情况下 , ASML必然会想办法尽快实现EUV光刻机自由出货 , 一方面是为了防止EUV工艺被NIL工艺;
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