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光刻机作为造芯片的重要工具 , 很多芯片制造商都会从ASML手中采购光刻机 。 从中低端的ArF , DUV光刻机到高端的EUV光刻机 , 都能为芯片制造产业提供巨大的产能支持 。
而ASML的供货情况大家都知道 , 最先进 , 最高端的EUV光刻机无法做到自由出货 。 因此关键时刻还得靠自己 。
中科院说过要将光刻机作为科研目标 , 而这一次 , 中科院付出了切实努力 。 都有哪些科研情况呢?光刻机的研究有何深远影响?
关于光刻机研究 , 中科院说到做到市场对光刻机仍有很大的消费需求空间 , 但是能做到大量供货光刻机的厂商全球范围内就那么几个 。 最受瞩目的就是ASML , 这家公司一年可供货上百台光刻机 , 其中最顶级的EUV光刻机就能达到40余台 。
而且随着ASML对产能的投入 , 未来还会取得更大的产能突破 。 包括日本佳能 , 也因为光刻机的盈利能力不断增强 , 因此佳能上调了净利润预测值 。
这些迹象都足以说明 , 市场对光刻机的消费需求不断增长 。 我国集成电路产能也在明显提升 , 而且专门定下了相应地芯片自给率目标 。 要想完成这一目标 , 是需要靠本土化芯片产业链实现生产作业的 。
生产芯片需要获得的设备就包括光刻机 。 在认清了ASML的出货状态之后 , 让人明白关键时刻得靠自己 。
而关于光刻机的研究 , 中科院说到做到 。 中科院院长白春礼表示过 , 将部署光刻机等领域 , 将其当做科研任务 。
专业的事还是交由专业的人 , 那么中科院在光刻机都有哪些科研情况呢?
根据传来消息显示 , 中科院上海光机所实现对光刻机诸多领域的技术突破 , 包括完成N41 钕玻璃用包边玻璃的研制 , 这是核心光学元器件的重要科研内容 。 除此之外 , 也完成米级光栅大口径离轴反射曝光技术 , 大尺寸 DKDP 长籽晶快速生长技术 。
随着这些技术突破的消息传开 , 也验证了努力就会有回报这样的道理 。 中科院说到做到 , 切实展开了光刻机的研究 。 这些科研情况对国产光刻机而言 , 或将积累更多的实际经验 。
为将来能够在EUV光刻机领域迈出稳重步伐 , 提供更夯实的基础 。 为了EUV光刻机 , 这一次 , 中科院拼了 。 未来往前的每一步都会变得有意义 。
光刻机的研究有何深远影响?都知道光刻机是多么先进的设备 , 就算是ASML , 也需要从全球供应链获得关键的技术支持 , 才能完成EUV光刻机的生产制造 。
仅凭ASML自己 , 是无法同时解决双工件台、光学系统、曝光系统、物镜等核心器件的 。 这些还只是光刻机的零部件之一 , 更多的电子特气、光刻胶材料等等都得跟得上生产节奏 , 技术必须保持一致协调性才行 。 更多的技术还需要从全球供应链获取 。
可纵使面前的山峰再高 , 也无法动摇继续向前的决心 。 所以会看见国内很多顶级高校 , 科研机构都在坚持不懈向前迈进 , 一点一滴的技术积累 , 能为将来做好必要的准备 。 因此光刻机的研究是有深远影响的 。
一方面加深产业链的自主化水平 , 秉持“自己有才是真的有”的原则 , 开展必要的研究 。
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