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\">芯片制造涉及到大量的半导体设备 , 材料 。 比如芯片光刻过程中会用上光刻机和光刻胶 。 但是这两种不同的设备 , 材料几乎都被国外供应商垄断 。
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荷兰ASML把控高端光刻机 , 日本供应商垄断大部分光刻胶材料市场 。 而国产厂商也在努力进步着 , 其中徐州博康成功打破日本光刻胶垄断 , 还获得了华为3亿元投资 。
那么光刻胶有多重要?国产光刻胶进展如何?
光刻胶的重要性在芯片行业 , 大部分的人将目光集中在光刻机 , 刻蚀机等重要的半导体设备 , 因为这些设备占光刻工艺的大部分成本 。
一台高端EUV光刻机售价1.2亿美元 , 高端刻蚀机的价值也在几千万美元以上 。 几乎占据了整个芯片制造
但是有一项重要的材料经常被人忽略 , 它在芯片制造的成本中可能不到十分之一 , 却有着决定性的作用 , 这项材料就是光刻胶 。
光刻胶是一种化学材料 , 它的重要程度是非常高的 。 在光刻机运作的过程中 , 将设计好的芯片线路曝光在晶圆表面 , 而在此之前需要在晶圆表面涂抹光刻胶材料 。
光刻胶的表层有一种光敏材料 , 一旦经过曝光 , 就会消解 。 得到曝光后的光刻胶会显现出芯片线路 , 此时刻蚀机沿着光刻胶显现的芯片线路进行刻蚀 , 然后晶圆上就会完整复刻出电路图了 。
看到这里应该就能明白 , 如果没有光刻胶 , 那么芯片线路是无法在晶圆表面成形的 , 也无法顺利造出芯片 。 虽然光刻胶的成本不如光刻机 , 刻蚀机 , 但是却起到了四两拨千斤的效果 。 重要性不言而喻 。
但是这么重要的材料却被日本垄断 , 日本东京应化、JSR、信越化学、富士电子材料等日企掌握全球80%以上的光刻胶市场 。 其中东京应化在高端EUV光刻胶领域占据绝对的市场地位 , 而JSR在ArF光刻胶当中市场份额全球第一 。
其实光刻胶也是有种类之分的 , 技术壁垒从低到高分别为G线、i线、KrF、ArF、EUV光刻胶 。 按照不同的应用场景 , 还可以分为PCB光刻胶 , 半导体光刻胶 。
当然 , 在半导体应用场景 , 从G线到EUV才是重点 。 从ArF开始 , 基本上就涉及到高端制程了 。 而纵观国内光刻胶的进展 , 也有国产企业打破日本在高端光刻胶的垄断 。
国产光刻胶进展如何?由于国产光刻胶起步较晚 , 很多产业链 , 原材料核心技术等等都需要从头积累 。 但经过国产厂商的刻苦攻关 , 终于取得了理想的进展效果 。
比如一家名为徐州博康的公司 , 在2010年成立之后 , 专注光刻胶产业链的布局 , 从单体材料到专用树脂 , 再到最终的光刻胶成品等等 , 都实现了国产化 。
在有了自主产业链的支持下 , 徐州博康实现单体材料的自给自足 , 也顺利完成了产业化的高端光刻胶单体材料量产 。 在该市场掌握全球5%的市场份额 , 一举打破日本光刻胶的垄断 。
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