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导读:近日荷兰ASML CEO警告称 , 如果停止向中国大陆供应半导体设备 , 全球半导体产业链将面临中断 。
图:Peter Wennink
芯片大师曾报道锁死7nm?美正施压ASML对大陆禁售DUV光刻机 , 但基于商业利益和外交考量 , 荷兰政府并未同意 , 同时ASML明确持反对态度 。
对此 , 近期ASML首席执行官Peter Wennink明确表示:“我认为需要意识到中国大陆是半导体产业重要参与者 , 不论成熟制程还是主流制程 , 中国大陆都是全球市场非常重要的供应商 , 所以必须小心正在做的事 。 ”
同时还略带批评称:“政界人士不时提出限制出口中国大陆DUV的计划 , 不过世界不能忽视的事实是 , 中国大陆拥有满足全球市场需求的芯片制造能力 。 ”
此前 , Wennink不止一次表达过 , 如果ASML断供更多设备 , 那么中国大陆迟早会研制出自己的光刻机 , 尽管不一定先进 , 但ASML将永远失去中国市场 。
图:Peter Wennink
中国大陆是ASML第三大市场 , 仅次于中国台湾和韩国 , 约占其2021年销售额的16% , 即21亿欧元(约合145亿元人民币) 。
自2019年以来 , 荷兰政府与美国达成协议 , 未授予ASML向中国大陆芯片制造商出售最先进的EUV光刻机的许可 。 不过 , ASML可以继续向大陆客户销售DUV光刻机 , 而全球大多数芯片都是用DUV光刻机制造的 。
在中美贸易战日趋激烈背景下 , 美国仍有施压ASML要求不要出售DUV等其他设备给中国大陆的讨论 。 荷兰外长也证实 , 美国和荷兰正在讨论此事 。
图:蔡司的高NA镜头研发生产基地
值得一提的是 , 在讨论是否对中国大陆禁售上一代DUV的同时 , 本季度ASML公司下一代高NA孔径EUV光刻机的制造已经取得重大突破 。
ASML表示已经收到了来自供应商的物镜、光源及工作台 , 这也是光刻机的三大核心部件 , 直接决定光刻机的工艺精度 。
根据ASML的消息 , 相比目前NA孔径只有0.33的光刻机 , 下一代的EUV光刻机NA孔径提升到0.55 , 有望进一步提高芯片工艺 , 是制造2nm及以下工艺的关键设备 。
高NA孔径的EUV光刻机价格也会大幅上涨 , 相比目前单台10亿元的价格 , 下一代光刻机价格要暴涨到4亿美元 , 人民币26亿元以上 , 原型机预计2023年上半年完工 , 2025年首次投入使用 , 2026年到2030年主力出货 。
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