光刻机|未来或将取代光刻机？国产冰刻机喜迎新进展，实现商业化指日可待芯片|华为

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2016年11月华为拉开了5G 时代的帷幕，拥有5G技术可以拥有经济，军事等方面的优势，美国为了阻止5G的发展禁止华为使用进口的手机芯片。

芯片是手机的重要组成部分，而我国在这方面的技术却很薄弱，同时我国也是芯片需求最多的国家，芯片中的光刻机又是其中重要的环节，为了制造出国产芯片，我国开始自主研发，下面就让我们一起来了解一下。
一、光刻机技术众所周知手机竞争的核心就是芯片，从前的华为使用的是进口芯片处处受到限制。于是华为决定研发属于自己的芯片，新研发的芯片使华为手机在功能上稳步提升。

但是新的芯片也存在缺点，在芯片的制作中光刻机的技术属于核心，因为这并不是一个企业或国家可以完成的技术。
那什么是光刻机呢？光刻机就是大规模集成电路的关键设备。全球光刻机的市场份额80%掌握在荷兰ASML企业手里，一台高端的光刻机零件有10万多件，是由多个国家的企业共同生产出来的，这也说明光刻机的生产难度有多高。

其实早在55年我国就已经有了光刻机，为什么到现在我国还是落后的呢？
1965年，由中科院研发的85型接触式光刻机出现了，这项研究当时在世界上来说可以说是寥寥无几，此技术已经接近世界顶尖水平。 1980年清华大学研制出第四代分布式投影光刻机，精度达到三微米， 1985年又研制出分布式光刻机的样机。

可以看出当时我国的技术还是世界领先的，改革放开以后，许多国外的企业进入我们，带来了先进的技术和管理制度，国内的企业就不再自主研发产品，而是选择了进口芯片，原因很简单，价格低，质量好。
对于当时的企业来说利润最大化是重要的，所以都选购进口的光刻机。随着时间的推移，于是国内光刻机企业就选择了转型，退出了光刻机市场。

过去几十年的光刻机发展历史中，让我们清楚知道了光刻机如何从成功走向没落的，除了国外的因素以外，最重要的是我国很多企业只是看到了短期的利益，没有长期发展的思维。
目前我国中科院已经把光刻机作为重点研究对象，但是短时间内很难推入市场。就在此时有一个好消息传来“冰刻机”技术有所突破。

二、国产冰刻机2012年西湖大学的副校长开始研究冰刻技术。冰刻技术就是要在-140摄氏度的密闭真空环境下，利用水蒸气可以低温结冰的原理，使冰模在晶片上迅速成型，然后在进行刻录，形成一个三维的电路结构。
目前国产冰刻技术可以在光纤末端做出复杂的微纳米冰雕，未来冰刻机有希望取代光刻机。那冰刻技术有什么优势呢？

制造光刻芯片时要将光刻胶均匀地涂抹在晶片上，光刻胶的好坏都会直接影响到芯片的制作效果，完成后还需要对机器进行除胶清洁，而冰刻技术则不用考虑这个问题。
使用电子束和水蒸气的冰刻技术的优势是加工精度高，效率高，芯片的集成度高，性能更强。不过冰刻技术对温度要求苛刻，这也是冰刻技术的难点。