光刻机|未来或将取代光刻机?国产冰刻机喜迎新进展,实现商业化指日可待( 二 )



冰刻技术的成功可以应对高端芯片市场的垄断 , 对推动我国高端芯片的制造起到了重要的作用 , 为未来我国取代光刻机迈出了重要的一步 。 在冰刻技术的操作过程中还有一个关键就是电子束 , 现在这个技术掌握在日本两家企业的手里 , 他们的电子束的精度可以达到10mm左右 , 我国国内的电子束最先进的只有1微米 , 这之间还是有很大差距的 。

研究任何的科学技术成果 , 首先都要建立在基础科研之上 , 而在打破高端芯片、光刻机的垄断的科研上 , 我国研究人员一直没有停止前进的脚步 。 冰刻机技术的出现对于陷入“芯片危机”的华为来说 , 是一个非常好的消息 , 同时也让我们看到了希望 。
三、结语虽然光刻技术传来了好消息 , 但是光刻机发展还是需要继续 , 我们要看清现实 , 支持科研人员继续开发 , 继续追赶世界先进的技术 , 即便回不到当年的辉煌 , 但我们要跻身世界光刻机技术之列 , 让我们的光刻机再次站到世界的舞台上 。
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