2纳米芯片，巨头的金钱竞赛( 四 ) 28纳米制程的开发费用大约为

亲历中国50年半导体行业发展历程的行业观察者、学者莫大康有一个测算，以台积电为例， 45nm时贡献20%的营收需要两年；28nm时贡献20%的营收需要一年；7nm时贡献20%的营收需要半年；5nm时贡献20%的营收只要一个季度。 2021年， 5纳米制程的收入占据总营收的19% 。如果据此推算， 3纳米甚至进展到2纳米制程的时候，或许不到一个月就能贡献到20%的营收。

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巨头进击
对于每一个在半导体产业链上的公司，都有一条明确的技术路线图。
每年全球半导体产业各类技术会议上，绝对的重头戏是讨论半导体的技术创新路线，参与方包括企业、大学、研究所，这些交流越深入，技术路线图就会变得越来越清晰。企业会资助大学进行前期的研究，研究成果会定期在技术会议上进行讨论。如果觉得可行，那么设备厂商就会开始着手研发，推出设备之后，会拿到研究所去试。这个过程当然谈不上良率，但研究人员和企业都会提出各种问题，然后进行改进。半导体厂内部也会有一些项目，站在生产实用的角度把会议上提到的研究继续工程化，看是否能够变成商用化的产品。
从研发走到实验室，是一个漫长的过程。往往需要走7年-10年的时间。 2纳米制程的技术路线，在半导体业界， 2016年的时候就已经很明确了，而在2014年左右，已经有研究论文发表。
“设备厂商很清楚知道我们的目标在哪里，两年后必须要有一个什么样的机器，如果没做出来，我们的设备就很容易被淘汰。 ”一位设备厂的研发人员告诉《财经十一人》。因此，设备厂也在紧锣密鼓地迭代自己的技术和产品。
这就是摩尔定律的残酷所在，一旦跟不上某一个节点，就很可能被甩在后面。
曾经，在进行到65纳米时，根据摩尔定律，下一个工艺制程推算应该发展157纳米光源的光刻技术，但157纳米光源的商业化进程迟迟未能落地，摩尔定律面临终结。半导体业界存在两种路线的争论，一个是继续研发157纳米光源的光刻技术，另一个是另辟蹊径，采用台积电林本坚所提出的浸润式微影技术。
那个时候，美国、欧洲和日本的设备厂已经投下大量研发费，用开发157纳米光源的光刻技术。
彼时的阿斯麦公司还没有现在的地位，总共只有30号人，技术远远落后于日本的光刻公司，光刻机的巨头是日本的尼康公司。林本坚找到阿斯麦，希望共同研发浸润式微影技术，阿斯麦为了能够在竞争激烈的摩尔定律追逐中生存，对这个提议非常上心，大概一年左右拿出了132纳米的样机，然后在台积电的产线上试，很快就实现量产，率先推动了摩尔定律。
阿斯麦也在这个关键节点上，超越了尼康。而尼康则已经把大把钱投入在了157纳米光源的机器上，尽管后面尼康已经研发出了157纳米的光刻机，但市场却已经有了新的产品，尼康被一直压制到现在。
上述设备厂的研发人员还记得，在他们公司成立时，他们就要瞄准65纳米的工艺研发设备，做完之后立刻就要做45纳米的机器。 “每一代更新、每一个时间点的步骤都很明确。 ”他说， “当然，压力也很大，因为只要一代设备没有跟上，公司可能就会死。 ”
在EDA行业多年的朱勇对此深有体会。目前，新思科技的主流工具是以9个月为固定周期进行版本的更新。他告诉《财经十一人》EDA工具的更新和迭代分为两种，一种是演进式，这是最主要的发展方式，主要是根据工艺、应用等新的特点和需求对现有工具进行功能增强，这种迭代是持续进行中的。另一种EDA工具的发展是革命性的，通过推出革命性的工具和方法学，引领业界发展方向的创新。