还有6个月，国产光刻机关键时刻来临！当下国内市场最为关心的技术

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当下国内市场最为关心的技术就是光刻机，而出现这样的情况，完全是因为芯片国产化的进程所引导，特别是在2020年，《新时期促成集成电路产业和软件高质量发展的若干政策》颁布，提出5年实现芯片自给率70%的目标之后，国内的造芯势力变得越来越强大。
而在相关扶持之下，我国的半导体制造产业链也是迅速爆发，特别是在芯片指令集架构、半导体用光刻胶等方面更是一飞冲天，实现了重大突破。

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但是，光刻机技术却一直是国内芯片技术之中被重点关注的对象，究其原因是因为在芯片制造产业链中包含着非常复杂的过程，而在这个过程中需要用到的技术有很多，诸如离子注入机、等离子蚀刻机、反应离子刻蚀系统等。
【还有6个月，国产光刻机关键时刻来临！】在这些技术中，有些我国企业已经走在了世界领先水平，例如上海中微半导体设备公司研发的等离子刻蚀机已经达到了3nm水准，处于世界一线水平。

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但是，有些技术却存在短板，其中水平最低的就是光刻机，这也是光刻机备受关注的根本，但是，这种情况其实不光是存在我国市场，当下全球除了荷兰、日本之外，其他地区也同样无法造出高精度光刻机，甚至老美在光刻机制造领域的技术还比不上我们。
因为，目前上海微电子已经可以批量生产用于制造90nm芯片的光刻机了，这是除了荷兰ASML、日本尼康、佳能之外，比较先进的水平。

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并且，在2020年上海微电子还传出消息显示，将在2021年到2022年交付第一台28nm工艺的国产沉浸式光刻机。这也就意味着我国在芯片制造领域又迈进了先进一步。
而距离2022年底还有6个月，这六个月任何时候28nm国产光刻机的问世，都代表国产光刻机的关键时刻来临，因为一旦28nm光刻机国产化，伴随着华为芯片堆叠技术以及中芯国际的代工技术，华为的麒麟芯片将重新复苏，同时也让我国芯片设计企业更有底气。

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所以说， 28nm光刻机的问世的确意义重大，而之所以没有说在短时间追求14nm或者更高工艺的光刻机，本质上并非是我国企业的技术不行，而是供应链的问题，这也是之前ASML公司敢说把图纸给我们，也造不出EUV光刻机的原因。
因为EUV光刻机的零部件高达10万之众，而这些零部件绝大部分都是来源于不同地区的不同公司，例如极紫外光的光源来源于老美，而镜头来源于德国莱卡。

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所以说，更多的时候，可能是我国企业的制造技术已经成熟，只是受限于供应链不够完善，才出现了光刻机技术发展缓慢的问题，而当下我国突破EUV光刻机的核心办法，除了加强光源技术的突破之外，还在不断培养国内相关供应链企业的崛起，因为只有国内众多企业的合力才能够快速解决EUV光刻机的问题。
至于ASML公司认为我国造不出EUV光刻机，其实是太低估我国企业的实力了，就拿上海微电子来说，虽然光刻机的发展进度有些慢，达不到世界一流水准，但是上海微电子的跨步还是非常快的，从280nm再到110nm再到90nm ，以及接下来的28nm ，相信很快就可以推进到14nm 。