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一旦到了14nm这个节点 ， 那么在很大程度上我国的芯片精度发展就可能跨越10nm范围 ， 因为在90nm光刻机之下 ， 通过过度曝光等方式是可以实现28nm光刻的 ， 只不过成本方面不具备市场应用而已 。
所以说 ， 外媒方面认为我国绝对无法突破EUV光刻机技术 ， 更多的只是沉浸在自己的幻想之中 ， EUV光刻机技术的确很难 ， 但是这并不意味着其就无法被攻克 。
你看好国产光刻机的发展吗？

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