支持5nm良率99.99％！又一芯片设备100％自研创始人是开国上将之子一直以来

一直以来，国人对于光刻机都保持了较高的讨论度，但对于光刻机以外的其他芯片制造设备关注却不多，诚然，因为光刻机是半导体工业皇冠上的明珠，集结了数学、高分子物理、化学、光学、机械等等多个领域的顶尖技术，因此国人对国产寄予厚望。
实际上，近年来除了光刻机以外，国产的其他芯片制造设备却迎来了巨大的发展，当然我们知道其中最典型的就是蚀刻机，国内企业中微公司的蚀刻机已经拿下了全球20%的份额，国内另一家企业北方华创也拿到了6%的份额，可谓是国产研发之光。
实际上，还有一个被忽略的设备就是量测设备，对于这个名词很多人可能一头雾水，量测设备是芯片良率控制的关键，我们知道芯片良率越高，代表工艺越成熟，制造成本就越低。

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量测设备主要是用于晶圆加工的前后检测参数是否达标，因此量测设备集合了光学、电学和光声技术，技术难度也相当高。目前全球70%以上的市场都被美国的科磊、应用材料和日本日立高新所控制。
但是近年来，国内相关量测设备却获得大力突破，国内企业东方晶源、中科飞测、上海精测和睿励都接连不断获得了突破。
我们知道，制造芯片是需要用到硅片的，硅片的直径从最初的6英寸、发展到8英寸，再到现在的12英寸，直径越大就代表，一个硅片能够制造的芯片越多，一个12英寸硅片所能制造的芯片数量，是8英寸的2.2倍。
因为晶圆越大，对检测设备的要求也越高，现如今全球主流芯片制造已经逐渐倾向使用12英寸硅片，因此摆在我国的难题是制造12英寸硅片的测量设备——CD-SEM以及薄膜厚度测量设备。
能够实现这一技术的企业，就包括上海睿励，也就是中微公司的参股子公司，持股比例为20% 。
上海睿励创立于2005年，创始人是吕彤欣，吕彤欣大有来历，他是开国上将吕正操的二儿子。吕彤欣出生于1951年，毕业于北京航空学院飞行器自动控制专业，之后跟他的大哥一样也在航天部工作，但是吕彤欣就有更高的追求， 1986年他赴美国留学又获得了电机工程博士学位，在美国工作10年后， 2002年他回国创业，瞄准了芯片量测设备这一中国空白领域，很快就填补了中国在芯片产业链中的量测设备空白。

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然而，由于过去十几年里，中国的芯片产业规模较小，缺乏芯片人才以及芯片制造厂商，国内量测产业发展较为缓慢，相关企业很难获得盈利，上海睿励同样如此，但是由于吕彤欣率领的精心于研发，上海很多国资企业以及投资机构源源不断地为睿励注入资金，因此这么多年来，睿励一直维持经营，并且不断获得技术突破，在12英寸量测设备率先突破，但是公司始终保持着低调。
早在2020年，睿励就推出了12英寸光学薄膜两侧设备，并且拥有完全自主知识产权，良率可达到99.99% ，而且性能上与国际厂商同类设备相当，而且在之前已经被国际以及国内厂商试用，其中就包括韩国三星。
2021年6月，睿励又推出了新一代光学膜厚量测设备（TFX4000i），在TFX3000P的全部优越性能上再次进行功能升级和完善，尤其是增加了反射测量模块和深紫外测量模块，由此涵盖了更广泛的工艺段应用。这款产品甚至可以适用于5nm的前后道工艺、10nm级DRAM ， 3DNAND等制造生产线。
根据睿励2020年报，其员工总数只有85人，但是2021年底，睿励科学仪器公司持有的专利数量达到104个，背景用占比高达58.25% ，位列全国半导体前道设备供应企业专利被引用比例第七强。

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