目前华为已经对外宣布 ， 后面将会采用堆叠、面积换性能的方式 ， 利用国内有限的产业水平 ， 来满足目前所需要的芯片需求 ， 在该领域 ， 华为之前已经申请了多项的技术专利 ， 后续肯定会在该领域深耕下去 。

如果能够成功利用即将国产化的14nm芯片 ， 通过堆叠的工艺实现不亚于7nm芯片的性能 ， 那么华为的芯片问题就将得到解决 ， 即便是手机业务也能恢复 ， 此前就已经证明了7nm芯片 ， 已经能够完全满足现阶段的需求 。
全球都在研发光刻机
在中科院开始布局光刻机技术研发之后 ， 国内的高校研究所相继突破了诸多的核心技术 ， 同样华为也不断地在努力实现技术突破 ， 这也让很多人看到了国产光刻机的希望 。
而根据此前传出的消息 ， 作为光刻机鼻祖的日企 ， 已经开始恢复对于光科技的研发了 ， 而同样在俄企业研究所 ， 也正式接收了光刻机研发项目 ， 其所采用的X光射线研发方向 ， 在实用性上丝毫不比EUV光刻机的极紫外光差！

全球都在致力于“去美化” ， 而ASML却怎么也摆脱不了含美技术了 ， 一旦国际上组装出了全新的光刻机 ， 自然ASML就将失去实际的价值 ， 所以外媒的发声是不无道理的 ， 对此你们是怎么看的呢？

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