光刻机|投资5100多万,俄罗斯要造EUV光刻机,比ASML还要先进?

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光刻机一直以来都是制造半导体的核心设备 , 我国半导体产业落后于人 , 很重要的原因就是无法实现高端光刻机的生产 。 据悉 , 一台光刻机由数十万个零件组成 , 需要全球五千多家供应商联手打造 。 而且光刻机所用零部件大都有专利保护 , 无法复制 。

因此 , 能生产光刻机的厂商屈指可数 , 能生产EUV光刻机的企业 , 全球只有荷兰ASML一家 。 不过 , 随着芯片作用日益凸显 。 越来越多国家和地区开始提升对半导体技术、设备的重视程度 。
据外媒报道 , 俄罗斯莫斯科电子技术学院 , 已经接下贸工部6.7亿卢布(约合人民币5100万)资金 。 开始研发用于芯片制造的光刻机 , 并且声称要达到EUV光刻机级别 。 那么 , 莫斯科电子技术学院能成功吗?

相信大多数人在刚听到这一消息时都和我一样 , 认为莫斯科电子技术学院是痴人说梦 。 不过 , 在仔细了解后我发现 , 莫斯科电子技术学院生产高端光刻机虽然希望渺茫 , 却并不是没有希望 。 光刻机机构复杂 , 零部件数量众多 , 但决定光刻机分辨率的因素主要就是三点 , 常数K、光源波长以及物镜的数值孔径 。

EUV光刻机之所以分辨率高 , 原因就是EUV光刻机使用的是极紫外光EUV , 它的波长仅为13.5nm 。 这里插入一个冷知识 , 通常来讲 , 波长越短 , 分辨率就越高 。 而莫斯科电子技术学院研发光刻机的突破口 , 就是波长 。
莫斯科电子技术学院是基于同步加速器和等离子体源 , 研发无掩模X射线光刻机 。 光源是X射线 , 他的波长介于0.1nm到10nm之间 , 比EUV极紫外光的波长还要短 。

因此光刻分辨率将更高 , 即便其他零部件有缺陷 , 但凭借光源优势 , 莫斯科电子技术学院也有希望研发出媲美EUV光刻机的产品 。
不仅如此 , 由于X射线光刻机无需光掩膜版可以直接光刻 。 因此 , 若是光刻机研制成功 , 那么光刻机的生产成本和使用成本都会大幅度降低 。

不过 , 即便有X射线技术加持 。 莫斯科电子技术大学研发的高端光刻机 , 也仅仅是有希望而已
事实上 , 查阅相关资料可以发现 。 X射线技术不是现在才有 , 也不是俄罗斯专利 , 在此之前
美国、欧洲都有进行过研究 。 国内也有机构研发X射线光刻机 , 而这一设备之所以没有大规模量产 。 主要原因是X射线光刻机芯片生产效率和EUV光刻机完全无法相比 , 并且存在很大的局限性 。

不过 , 俄罗斯在X射线技术以及等离子技术方面有天然优势 , 莫斯科电子技术学院能在高端光刻机自研道路上走多远 , 值得期待 。
【光刻机|投资5100多万,俄罗斯要造EUV光刻机,比ASML还要先进?】在你看来 , 俄罗斯能研制出不输EUV光刻机的光刻机设备吗?