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自从华为的麒麟芯片无法顺利出货之后 ， 光刻机这一概念就开始迅速普及 ， 因为目前华为所面临的问题就是制造方面的难题 。 但是无奈目前EUV光刻机是全球各大企业结晶的产物 ， 我国在这方面的研究尤为不足 。 所以无奈导致目前国产芯片的制造环节严重落后 。

EUV光刻机难得不是制造 ， 而是技术
而说到EUV光刻机设备 ， 现如今只有荷兰的ASML公司能够生产和制造 ， 因为其涉及到了技术专利过多 ， 而且供应链也来自于各个国家 ， 所以想通过单纯的仿造和学习 ， 很难有所突破 ， 尤其是技术专利的问题 。 所以这也有了当初ASML说过的话“给图纸也造不出” 。

而除了华为以外 ， 其实还有另外一个国家正在遭受同样的遭遇 ， 那就是俄 。 从2月底开始 ， 各家科技企业都开始陆续对当地用户以及市场展开停止服务和运营的行为 ， 其中自然也就包括芯片 。 不过面对这种情况和问题 ， 俄正式开始对其展开了反击 。

首期投资6.7亿 ， 俄对光刻机出手
根据消息表示俄将开始研发EUV光刻机设备 ， 首次投资将会投资6.7亿资金 。 不过此EUV光刻机非ASML得EUV光刻机 。 因为俄研发的EUV光刻机设备是基于同步加速器的无掩模X射线光刻机设备 。 相比于ASML得EUV光刻机少了光掩模版 ， 可以直写光刻机 ， 这一点可以节省一部分的成本费用 。

而从技术角度来说 ， X射线光刻机的波长介于0.01nm到10nm只见 ， 分辨率方面也要比ASML得EUV光刻机更高 。 正是因为成本降低的同时分辨率提升 ， 所以外媒也表示这方面连ASML也做不到 。
但是说到这里就需要考虑另外一个现实 ， X射线光刻机虽然理论角度比EUV光刻机更优秀 ， 但纵观全球范围内 ， X射线光刻机都未能实现大规模量产 。 并不是因为该项技术是首次提出 ， 而是因为诸多国外企业在经过研发和生产以后 ， 其生产的效率远不如ASML的光刻机 ， 所以一直未能大规模量产 ， 研发的国家当中也包括我国 。

人才其实是关键
不过全球范围内没有量产的成功案例 ， 并不意味着俄就会失败 。 虽然其研发能力并不是全球顶尖 ， 但是当地企业内却有着大量的科研人才 。 华为在俄当地的研发中心里也有不少来自于当地的科研人才 。 甚至有消息表示 ， 华为的3G技术 ， 就是因为俄的一位数学家提供的算法所实现的 。

也有人吐槽投资6.7亿资金不够 ， 但这毕竟是首批投入资金 ， 而该项目也是长期研发工作 ， 所以未来还会进一步扩大规模 。 再加上当地丰富的人才资源 ， 所以X射线光刻机的研发也并不一定会比想象当中的更加困难 。

对此 ， 外媒也表示 ， 如果X射线光刻机研发成功 ， 不只是对俄来讲是个好消息 ， 对华为其实也有一定的好处 ， 因为芯片“去美化”完成以后 ， 华为目前所遇到的问题也将会迎刃而解 。 所以从这个角度来讲 ， X射线光刻机对我们来讲也是一种希望 。
【光刻机|投资6.7亿研发光刻机，俄正式出手，外媒：ASML也做不到】