一加科技|ASML表态后，上海微电子向中企交付光刻机，首台已搬入红米手机|真我GT Neo5|一加ace2

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美想进一步限制光刻机等设备出货，但上海微电子已经开始向国内厂商交付光刻机，国产替代进口的序幕已经拉开了。
光刻机是生产制造芯片的必要设备，全球范围内仅有四家企业可以生产制造光刻机，但ASML生产制造的光刻机最为先进。
可是ASML不能自由出货，最初被限制的是EUV光刻机，随后美修改规则，也约束了DUV光刻机的出货。

据了解，美从去年10年份就开始对ASML进行游说，希望其进一步收紧国际主流光刻机的出货范围。
随后又联合日、荷兰进行先进半导体设备进行出货限制。
目前，日方面已经表示将会在今年春季开始限制半导体设备出货，这意味着协议达成了。
不过ASML也进行了表态，新规不会影响ASML2023年的营收，因为该政策落地还需要一段时间， ASML目前仍可以继续出货。

但没有想到的是， ASML表态后，上海微电子就向中企交付了光刻机，首台已搬入。
据了解，中企昆山同兴达向上海微电子购买两台光刻机，目前首台光刻机已经交付搬入，计划3月份完成调试以及样品试剂， 5月份开始投产。
昆山同兴达是集研发、设计、制造为一体的液晶显示模组的龙头企业，主要生产制造LCD、LED液晶显示模组和摄像头模组。
此次向上海微电子购买了两台封装光刻机，主要是进行芯片后期封装测试。

在封装光刻机领域内，上海微电子是全球领先的，不仅拿下了国内八成的市场份额，还拿下了全球四成的市场份额。
当然，在前道光刻机方面，也就是常说的DUV和EUV光刻机，上海微电子也取得了诸多突破。
上海方面已经宣布，国产90nm光刻机已经取得了突破，在多重曝光技术，可以将芯片制程缩小到22nm 。

有消息称，上海微电子28nm精度光刻机已经通过技术认证，并在光源技术方面与英诺激光展开合作，相信不久的将来就会取得突破。
关键是，国内厂商已经早就开始在光刻机技术方面进行联合突破。
例如，华为公布了光刻机技术相关的专利；北京国望光学光刻曝光系统研发取得了成果，已经进入批量生产阶段。
尤其是华卓精科掌握了双工件台核心技术，科益虹源自主研发了首台高能分子激光器，这些技术在全球范围内都是数一数二。

这意味着在更先进的光刻机技术方面，国内厂商的进步也是有目共睹的，突破也仅仅是时间问题。
ASML方面也承认了这一点，限制先进光刻机出货，只会加速国内厂商突破，因为光刻机技术原理是公开的，这些年芯片等技术加速回流到中国，这也将缩短突破的时间。
【一加科技|ASML表态后，上海微电子向中企交付光刻机，首台已搬入】最主要的是， ASML的光刻机基本达到了瓶颈，新的芯片技术也在不断出现，这也给国内厂商提供了更多选择。