光刻机|ASML没料到！美日荷达成协议后，两条国产光刻机消息传来阿斯麦尔|芯片

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芯片制造过程中主要用到九大核心设备，其中光刻机是最为关键，因为光刻工艺占晶圆制造耗时的40-50%左右。因此，光刻机就成了如今芯片“卡脖子”的重要环节。

为了阻挠我们发展，之前美方已经限制了ASML出货EUV光刻机，如今又想要扩大限制DUV光刻机。但ASML没想到的是，关于国产光刻机，近日两条消息正式宣布！

EUV光刻机可用于生产7-3nm制程芯片，属于高端光刻机。目前全球只有ASML一家能够生产，所以2018年中芯国际购买时， ASML只需要向荷兰方面施压就拦下了。

如今，美方的芯片限制措施不断地收紧。去年10月份发布的最严出口管制新规，目标由原来仅限制10nm及以下，提高到了限制14nm及以下的先进芯片制造设备出口。

这就涉及到了DUV光刻机，因为DUV中的ArFi浸没式光刻机能生产45-7nm芯片。

限制DUV的话，就不只ASML一家了，日本的尼康也能够生产。但尼康的光刻机产量并不大。以2021年为例，全球共出货85台ArFi ，尼康仅出货4台，其他为ASML 。

因此，美方才会拉拢日、荷两方，想要他们一起实施限制，重点就是DUV光刻机。

我国虽然也有光刻机制造商上海微电子，但相比之下，差距还很大，目前芯片制造用的光刻机才做到90nm ，虽然有消息显示一直在攻坚28nm光刻机，但还未能量产。

据说，三方已经达成了协议，接下来将会限制包括DUV在内的先进芯片制造设备。不过， ASML非常明白，并不想限制DUV出货，因为现在不出货，以后可能没机会了。

近日， ASML总裁再次发出警告，美方一味地实施出口限制，只会加速中企突破相关技术。并且还预言道，中企很快就能做出与ASML匹敌的光刻机，我们将会失去市场。

令ASML没想到的是，很快传出了两条国产光刻机消息，外媒表示ASML的预言或将成真！

第一，中企搬入上海微电子光刻机。中企昆山同兴达近日举办了光刻机搬入仪式，购买了2台上海微电子光刻机。但属于是封测光刻机，并不是芯片制造用的光刻机。

上海微电子虽然前道芯片制造用光刻机还有差距，但后道封测光刻机却做到了领先。

第二，大族激光推出接近式光刻机。大族激光近日对外宣布，接近式光刻机已投入市场，同时步进式光刻机已启动用户优化。不过，这两种光刻机均处于初级低端阶段。

以上的两条国产光刻机消息，虽然涉及的光刻机都不先进，但至少说明我们还在努力突破光刻机。只有低端的光刻机不断实现国产替代，才能够向中高端水平不断迈进。

就像芯片产业链，我们的整体水平确实不太高，但我们具备其他任何国家也比不了的优势，那就是全产业链，就是每个环节都有在做，虽然水平不高，但会逐步提高。

光刻机也是如此，我们也并不是因为限制才开始努力，而是多年前就开始进行布局。

【光刻机|ASML没料到！美日荷达成协议后，两条国产光刻机消息传来】

因此，国内光刻机细分产业链的各个方面都有安排，都有相关的科研部门或企业在研发，比如中科院旗下的长春光机所、上海光机所等，还有不少企业陆续实现突破。

比如光刻机的三大核心部件，华卓精科突破了双工作台，成了继ASML之后全球第二家掌握此技术的厂商。科益虹源突破了DUV的ArF光源，并交付上海微电子使用。