光刻机|ASML没料到!美日荷达成协议后,两条国产光刻机消息传来( 二 )



国望光学突破了28nm的ArF浸没式光刻曝光光学系统 , 启尔机电突破了浸液系统 。


可以说 , 国产DUV光刻机国产条件已经具备 , 如今未正式推出 , 应该是在进行最后的测试 。 对此 , ASML应该最为了解 , 所以才会说出中企将很快造成高水平的光刻机 。

当然 , 我们必须正确认识到光刻机方面的差距 , 接下来依然需要静下心 , 继续加大研发力度 , 争取尽快打造出完全自主可控的芯片产业链 , 彻底摆脱“卡脖子”限制!