芯片|处理器的制造过程是什么？ CPU|光刻胶|光刻机|it芯片

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追本溯源，绝大多数的芯片是从沙子中来的，沙子是如何经历千辛万苦摇身一变，成为价格不菲的芯片呢？第一步：制作晶圆，严格来说，半导体的主要材料是硅元素，硅元素在地球上的储量仅次于氧元素，硅元素是制作集成电路最优质的原材料。可以说，沙漠这种能大量提供沙子的地方，已经成为优质硅元素的重要来源。

    沙子的主要成分是二氧化硅，而芯片制造要用到其中的硅元素，也就是单晶硅。这一步需要将硅元素从沙子中提取出来。目前，主要的提纯手段是将沙子和焦煤放到1800℃的环境中，二氧化硅还原成纯度为98%的单质硅，然后用氯化氢提纯出99.99%的多晶硅，接着进一步提纯99.999999999%的单晶硅。

【芯片|处理器的制造过程是什么？】
  目前，制作硅锭的方法主要是直拉法，高温液体的硅元素中加入籽晶，提供晶体生长的中心，晶体慢慢向上提升，同时以一定的速度绕着升轴旋转，单晶硅锭就这样形成了。圆柱体的硅锭还不能用来制作芯片，需要将硅锭切割成1mm厚的圆片，也就是我们常说的晶圆。切割工具是“钻石锯” ，价值连城啊。下图显示了已经切割完成的晶圆，晶圆上还有一个缺口：第一是为了定出晶圆的方向，第二，为了运输拆卸方便。

切割出的晶圆表面不光滑，需要仔细研磨，打磨因切割造成的凹凸不平的表面。研磨后，还需要用特殊的化学技术进行清洗，最后抛光，到了这一步，晶圆才制作完成。前工程的主要流程是在晶圆上制作出带有电路的芯片，其中要用到光刻机，世界上最先进的EUV光刻机，只有荷兰的ASML能够生产。

   然后将光刻胶涂抹到晶圆上，光刻胶是一种感光材料，受到光线照射后会发生化学反应。将光刻胶滴到晶圆上，通过高速旋转均匀一致的覆盖到晶圆上，呈一层薄膜。接下来紫外线照射，这一步进入光刻工艺，需要用到光刻机，是整个CPU制作环节，最复杂、成本最高的。将紫外线通过预先设计好的电路图案磨具，照射到光刻胶上，达到电路图复制的目的。

随后是光刻胶溶解，这一步主要是为了溶解经过紫外线照射的光刻胶，未被照射的部分会完整保留下来。溶解后完成的晶圆经过冲洗、热处理后进入下一个环节。然后将晶圆放到特殊的蚀刻槽中，通过药剂的腐蚀作用，将暴露在药剂中的晶圆进行蚀刻。蚀刻完成后，整个晶圆的首层电路图就完成了。目前，大多数的芯片晶体管采用了FINFET工艺，单层处理可能无法做出所需要的图案，要经过多次的“涂胶-光刻-溶解” ，才能获得最终需要的3D晶体管结构，如下图所示，显示了一个晶体管的结构。

蚀刻完成的晶圆，不具备芯片所需的电气特性，需要强行将离子注入到晶圆内部，用于控制内部导电类型。经过这一步，晶圆内部的某些硅原子替换成了其他院子，产生了自由电子和空穴的性能。接下来是绝缘层处理，到了这一步，晶体管的雏形基本完成，利用气相沉积法在硅晶圆的表面沉积一层氧化硅膜，形成绝缘层。随后沉淀铜层，将铜均匀的沉积到绝缘层，下一步可直接在铜层上布线。需要再次用到光刻机，对铜层进行雕刻，形成源极、漏极、栅极。