先进封装最强科普( 四 )
要演示yield参数 , 请参见下表 。 AMD将CPU内核拆分为8个CPU内核小芯片 。 如果良率是100% , 英特尔将能够以比AMD更低的每个CPU内核的成本制造内核 。 但相反 , 英特尔必须在每个CPU内核上花费更多 , 因为更大的芯片有更多的缺陷 。 下表有一些明显的警告 , 其中最大的假设是缺陷芯片的收获率为0 , 并且英特尔和台积电具有相同的D0 。 这些假设都不是真的 , 这个练习是为了演示目的 。
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小芯片(Chiplet)很棒 , 但它不是孤立的解决方案 。 我们仍然遇到许多相同的问题 。 每个晶体管的成本仍在上升 , 设计成本飙升 , 由于需要更多IO来与其他芯片接口 , 小芯片被pad限制 。 由于IO限制 , 部分芯片无法拆分 , 因此芯片尺寸仍在达到峰值 。
解决办法是什么?
先进封装!
这就是我们要注意的地方 , 一些工具供应商将所有倒装芯片封装称为“先进封装” 。 SemiAnalysis和大多数业内下游人士不会这么说 。 因此 , 我们将所有凸点尺寸小于100微米的封装称为“先进” 。
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最常见的先进封装类别称为扇出 。 有些人会争辩说它甚至不是先进的封装 , 但那些人大错特错 。 以Apple为例 , 他们将让台积电采用应用处理器芯片 , 并将其与90微米到60微米数量级的更密集凸块封装到重组或载体晶圆/面板上 。 与传统倒装芯片封装相比 , 凸点密度大约高出8倍 。
这种重组或载体晶圆/面板然后进一步展开IO , 因此得名扇出 。 然后将扇出封装连接到主板 。 硅芯片的设计可以减少对pad受限的担忧 , 因为扇出处的pad较小 。 该封装还可以封装DRAM内存、NAND存储和PMIC 。 集成扇出不仅有利于密度 , 而且它们还在封装上保留了大量的芯片间IO 。 否则 , 该IO将不得不以更大的IO间距尺寸通过主板进行接口 。
集成扇出对于高性能应用程序变得越来越普遍 , 不仅仅是移动应用程序 。 增长最快的用例是在十多年来设计一直受到限制的事物的网络方面 。 AMD将在其服务器CPU和GPU中非常积极地采用扇出 。 TeslaDojo1是集成扇出封装的另一个引人注目的例子 , 但在晶圆级 。 SemiAnalysis透露 , 特斯拉将在发布公告前使用这种包装类型 。
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在先进封装中 , 有2.5D和3D封装 。 2.5D涉及封装在其他硅片上的硅片 , 但较低的硅片专用于布线 , 没有有源晶体管 。 这通常以55微米到50微米的间距完成 , 因此凸点密度高出约16倍 。 最常见和最高容量的用例是具有TSMCCoWoS(基板上晶圆上芯片)的Nvidia数据中心GPU 。 台积电将有源芯片封装在只有互连和微凸点的晶圆上 。 然后使用传统方法将这叠芯片封装到基板上 。
其他示例基本上包括每个带有HBM的处理器 。 HBM是作为一种阶梯函数增加内存带宽的方法而建立的 , 这种方法高于传统形式的DRAM 。 它通过使用更宽的内存总线来实现这一点 。 这些宽总线会产生与IO计数相关的问题 , 但HBM是从头开始设计的 , 以便在同一包内共存 。 这颠覆了IO问题 , 同时也允许更紧密的集成 。
2.5D的更多示例包括基于IntelEMIB的产品、XilinxFPGA、AMD最新的数据中心GPU和AmazonGraviton3 。
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3D封装是将一个有源芯片封装在另一个有源芯片之上 。 这最初由英特尔以55微米间距的逻辑硅一起发货 , 但批量用例将在36微米及以下 。 台积电和AMD将推出17微米间距的3D堆叠V-cache 。 该技术从凸块过渡到硅通孔(TSV) , 并且具有更大的扩展空间 。
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