现状|2020年中国半导体存储器行业发展现状分析,市场进口替代空间巨大

现状|2020年中国半导体存储器行业发展现状分析,市场进口替代空间巨大
文章插图
一、概述
【 现状|2020年中国半导体存储器行业发展现状分析,市场进口替代空间巨大】1、定义
半导体存储器是指用半导体集成电路工艺制成的存储数据信息的固态电子器件,是半导体集成存储器的简称。它由大量相同的存储单元和输入、输出电路等构成,每个存储单元有两个不同的表征态“0”和“1”,用以存储不同的信息。是构成计算机的重要部件。同磁性存储器相比,半导体存储器具有快、存储容量大、体积小等优点,并且存储单元阵列和主要外围逻辑电路兼容,可制作在同一芯片上,使输入输出接口大为简化。因此,在计算机高速存储方面,半导体存储器已全部替代过去的磁性存储器。
2、分类
半导体存储器按照断电后数据信息是否能够保留可以分为两个大类,随机存储器(RAM)和只读存储器(ROM),前者在外部电源切断后,存储器内的数据也随之消失,主要产品是DRAM,而后者则能够保持所存储的内容,主要产品是Flash。
半导体存储器的分类
现状|2020年中国半导体存储器行业发展现状分析,市场进口替代空间巨大
文章插图
资料来源:公开资料整理
二、产业链分析
1、产业链结构
半导体存储器产业链结构中,上游为芯片、硅片、光刻胶等原材料及光刻机、刻蚀机、薄膜沉积设备等制造设备;中游为半导体存储器生产制造厂商;下游被广泛应用于服务器、网络通信、消费电子、汽车电子、工业电子等行业。
现状|2020年中国半导体存储器行业发展现状分析,市场进口替代空间巨大
文章插图
资料来源:公开资料整理
2、上游端分析
光刻胶是指通过、、、等的照射或辐射,其发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。由、和3种主要成分组成的对光敏感的混合液体。是我国半导体存储器重要的原材料之一。据资料显示,2020年我国光刻胶产量为13万吨,同比2019年增长18.2%。
现状|2020年中国半导体存储器行业发展现状分析,市场进口替代空间巨大
文章插图
资料来源:公开资料整理
光刻机又叫掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等,采用类似的技术,把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到上,是制造芯片的核心装备。据资料显示,2020年全球光刻机销量为413台,同比2019年增长15%。
现状|2020年中国半导体存储器行业发展现状分析,市场进口替代空间巨大
文章插图
资料来源:公开资料整理
3、下游端分析
随着我国5G技术的不断发展与普及,5G基站的建设数目也是不断在增加,其对于相应的材料需求也是不断在增加,在需求增加的刺激下,我国半导体存储器行业规模也不断扩大,迎来了快速发展。据资料显示,到2021年上半年,我国5G基站建设数量为96.1万个,比2020年增加24.3万个。
现状|2020年中国半导体存储器行业发展现状分析,市场进口替代空间巨大
文章插图
资料来源:工信部,华经产业研究院整理
三、行业现状分析
1、销售额情况
随着我国经济及科技水平的不断发展提升,我国已然成为全球电子产品的制造基地,相关的电子产品产量也是在不断增加,而半导体存储器作为电子类产品不可或缺的一个部件,对其的需求也相应的在逐年增长。据资料显示,2020年,我国半导体存储器销售额达692.6亿元,同比2019年增长14.6%。
现状|2020年中国半导体存储器行业发展现状分析,市场进口替代空间巨大
文章插图
资料来源:公开资料整理
相关报告:华经产业研究院发布的《2022-2027年中国半导体存储器行业市场运行态势及投资战略研究报告》;