双靶磁控溅射仪是一款高真空镀膜设备 ， 可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等 。 本公司生产的DC系列的数字型热式气体流量控制器在该设备中使用 ， 产品采用全数字架构 ， 新型的传感制作工艺 ， 通讯方式兼容：0-5V、4-20mA、RS485通讯模式 ， 一键切换通讯信号 ， 操作简单方便 。

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热式气体流量控制器
双室磁控溅射沉积系统是带有进样室的高真空多功能磁控溅射镀膜设备 。 它可用于在高真空背景下 ， 充入高纯氩气 ， 采用磁控溅射方式制备各种金属膜、介质膜、半导体膜 ， 而且又可以较好地溅射铁磁材料（Fe、Co、Ni） ， 制备磁性薄膜 。 在镀膜工艺条件下 ， 采用微机控制样品转盘和靶挡板 ， 既可以制备单层膜 ， 又可以制备各种多层膜 ， 为新材料和薄膜科学研究领域提供了十分理想的研制手段 。

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动态配气装置
DC系列的数字型热式气体流量控制器正常工作压力范围可达：10MPa（100Bar） ， 产品精度优于±1%F.S ， 响应速度优于2秒且流量值稳定速度也是极快的 。 阀体过流材质均选用品质良好的316L不锈钢 。 供电方式为+15V—24V的宽频供电 ， 能满足市面上绝大多数用户的使用要求和使用习惯 。 DB9针的电气接头 ， 也方便了用户在使用时的拆装 。 具有响应速度快、准确度高、稳定的流量控制、宽压力范围、优良的耐腐蚀性和出色的线性度等优点 ， 能监测和控制各种惰性气体及部分具有腐蚀性的气体 。

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气体稀释仪
【双靶磁控溅射仪是一款高真空镀膜设备|热式气体流量控制器在双靶磁控溅射仪的应用】来源：搜狐科技

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