荷兰ASML(阿斯麦)正在全力研制划时代的新光刻机high-NA EUV设备 。
所谓high-NA即高数值孔径,从当前的0.33提升到0.55,从而允许更紧密的电路图案(2nm及以下)和更高的生产效率 。
据elec报道,周二在韩国首尔,ASML CEO Peter Wennink透露,高NA EUV光刻机系统的单台造价将在300亿到350亿欧元之间,约合人民币2195到2561亿元 。
【阿斯麦|ASML新一代高NA EUV光刻机造价2500亿:Intel一年赚的钱不够买一台】这是什么概念?
ASML目前在售的双工件台EUV光刻机不过数亿美元,此前有调侃说相当于一架F22/35战机 。而下一代产品不仅身价上调百倍,别说战机,这么一大笔钱“造航母”都够了 。
在举个简单的例子,2021财年Intel的净利润总额是199亿美元,换言之,Intel忙活一年挣的钱,买一台高NA EUV光刻机都不够……
不过,此前Intel表示自己是全球第一个下单的客户,台积电也跟进了,三星和SK海力士则尚未表态 。
按照ASML的说法,高NA EUV光刻机将在2024年进厂投入使用,预计年产能20台左右 。该公司还预计其营收将在2025年翻一番 。
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